Проведено изучение повреждаемости и изменения микротвердости поверхности ванадиевого сплава V-3,49 Ga в сравнении с чистым ванадием, а также накопления в них дейтерия под воздействием мощных импульсов дейтериевой плазмы плотностью ~10~(15) см~(-3) и максимальной энергией ионов дейтерия 1-2 кэВ. Показано, что топография поверхности в аналогичных режимах облучения практически одинакова для сплава и металла и изменяется с увеличением полного потока энергии в последовательности: редкие трещины, сетка трещин и оплавление + трещины. Наблюдается насыщение поверхностных слоев сплава V-3,49Ga толщиной ～100 нм дейтерием как с облученной, так и с необлученной сторон, причем концентрация дейтерия на необлученной стороне ～в 3 раза выше, на облученной. В результате воздействия импульсной дейтериевой плазмы при суммарной плотности энергии 13,5 МДж/м~2 имеет место резкое ~ в 2,5-3 повышение микротвердости как сплава, так и ванадия. Обсуждаются возможные механизмы наблюдаемых эффектов.
展开▼
