Проведено осаждение тонких алмазоподобных пленок на подложку из кремния с помощью ионного источника на основе отражательного разряда с холодным полым катодом. Осаждение проводили при различных условиях: варьировали давление (12-50 мПа) и состав (С_3Н_8, СН_4, Н_2) плазмообразующего газа, напряжение ускоряющего промежутка в диапазоне 0,5 - 5 кВ, температура подложки в диапазоне 20 - 850 deg С. Синтезированные пленки исследовали методами инфракрасной (ИК) спектроскопии, спектроскопии комбинационного рассеяния света (КРС) и склерометрии.
展开▼