Структура и вольт-амперные характеристики электрических контактов медь - вольфрам, полученных на установке Плазменный фокус

摘要

Исследованы структура и вольт-амперные характеристики (ВАХ) электрических контактов медь - вольфрам, напыленных на установке 《Плазменный фокус》. Показано, что приведенное сопротивление контактов при 300 К составляет -0,4-10~(-6) Ом-см~2, при 80 К - 0,4-10(-7) Ом-см~2, что удовлетворяет самым высоким требованиям к омическим контактам в электрических установках и полупроводниковой электронике. Образование микротрещин на поверхности вольфрама при воздействии высокоскоростных потоков плазмы не оказывает заметного влияния на сопротивление контактов. Расплав меди, проникая под действием высокого давления плазмы вглубь вольфрама по трещинам, застывая, создает области повышенной проводимости. Пайка электрических контактов оловянным припоем приводит к отклонению ВАХ от линейности при 80 К. Возможно, причиной этого является формирование барьеров Шоттки SnO_2-медь на поверхности Cu - W контактов.