コンタクトヘッドの摩耗低減

摘要

磁気ディスク記憶装置では,記録密度100 Gb/in~2を実用化の域に収め,現在では1 Tb/in~2の密度を実現するための開発が進められている.これまでの記録密度向上は,Fig.1に示すようにヘッド.ディスク間隔(浮上スペーシング)の低減に支えられている1 Tb/in~2の記録密度を実現するためには,磁気記録媒体と磁気ヘッド素子との間の磁気スペーシングを6 nm程度に短縮する必要があると予測されている.この磁気スペーシング中には,摩耗/腐食防止のためのヘッドおよびディスクの保護膜が存在するため,機械的スペーシングは3.5nm程度に低下する.