「井伊谷賞その後」1997年受賞：空気清浄化技術におけるUV光の複合的利用－微粒子／微量ガス成分の同時除去への適用－

摘要

空気清浄化技術に対する関心は，一般室内環境からより高い清浄度を必要とする半導体関連のクリーンルームまで非常に多岐にわたっている。これに対し，1997年の井伊谷賞では，微量有機汚染ガスをいかに除くかの提案として，①短波長紫外光による光分解とオゾンやOHラジカルなどの反応活性種の生成，②反応活性種による酸化分解と粒子転換，③ハニカム状オゾン分解触媒（ODC）によるオゾン処理と生成粒子（低粒径側）の拡散付着除去，④分解と同一の光源（光学フィルタによる波長選択）による生成粒子（高粒径側）のUV／光電子法による荷電捕集除去といった要素技術の複合化とその試作装置（Fig．1）について，可塑剤であるフタル酸ジブチル（DBP）とフタル酸ジオクテル（DOP），シーリング剤である低分子量シロキサン（LMCS）からの粒子化傾向と除去効率（Fig.2）を例に挙げて発表させていただいた。