首页> 外文期刊>Физикаи химия обработки материалов >Лазерно-плазменный источник ионизирующих излучений для моделирования радиационного воздействия на материалы и элементы микроэлектроники
【24h】

Лазерно-плазменный источник ионизирующих излучений для моделирования радиационного воздействия на материалы и элементы микроэлектроники

机译:电离辐射的激光等离子源,用于模拟暴露于微电子材料和元件的辐射

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Измерены характеристики рентгеновских и гамма импульсов, а также импульсных протонных потоков, генерируемых при воздействии на жидкую галлиевую мишень и на молибденовую мишень фемтосеку ндных импульсов лазера с длиной волны 800 нм и интенсивностью излучения на мишени 10~(18)Вт-см~(-2). Оценочные расчеты показали принципиальную возможность применения подобных источников ионизирующего излучения для экспериментального моделирования радиационных эффектов одиночных сбоев в современных элементах микроэлектроники с высокой степенью интеграции.
机译:X射线和γ脉冲的特性,以及当液态镓靶和钼靶暴露于波长为800 nm的飞秒激光脉冲以及靶上辐射强度为10〜(18)W cm〜(-2的飞秒激光脉冲时)产生的脉冲质子通量)。估计计算表明,使用这种电离辐射源对具有高集成度的现代微电子元件中单个故障的辐射效应进行实验建模的基本可能性。
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号