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【24h】

酸化亜鉛透明導電膜の性能,コストの両面で優位性を確実をものに/大型薄型ディスプレイ向け反応性プラズマ蒸着法成膜技術の開発

机译:确保氧化锌透明导电膜的性能和成本方面的优越性/适用于大型和薄型显示器的反应性等离子体沉积法成膜技术的发展

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摘要

「透明電極向けITO代替材料開発」をテーマに採択された委託事業者は 独立行政法人産業技術総合研究所,金沢工業大学,高知工科大学,アルプス毒気,カシオ計算磯,ジ漆マテック,ZnOラボ,ハクスイテック,三菱ガス化学,財団法人四国産業·技術振興センター。 研究概要は,大型フラットパネルディスプレイ向け反応性プラズマ蒸着法(RPD法)成膜技術の開発,新たな酸化抑制型成膜技術(基礎技術は直流マグネトロンスッバッタリング)などの開発を行う。 このプロジェクト·リーダーである高知工科大学工学部総合研究所マテリアルデザインセンターセンター長,山本哲也教授に研究体制や実用化に向けての課題について聞いた。
机译:以“开发用于透明电极的ITO替代材料”为主题的承包商是法人行政事业所工业技术研究所,金泽理工大学,高知工业大学,阿尔卑斯毒物,卡西欧计算Iso,吉鲁西·马泰克,ZnO实验室,护水技术,三菱瓦斯化学,四国工业技术振兴中心。研究的重点将是用于大型平板显示器的反应性等离子体沉积法(RPD方法)成膜技术的发展,以及新的抑制氧化膜的形成技术的发展(基本技术是直流磁控子灌浆)。我们询问了项目负责人,高知工业大学工程学院材料设计中心主任山本哲也教授关于研究系统和实际使用的问题。

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