組成勾配下における第2相粒子の析出kinetics

摘要

窒化に代表されるような表面処理においては、試料表面からの溶質原子の流入や、試料内部での拡散などによって、刻々と変化する組成勾配下で析出が進行する。 このような刻々と変化する組成勾配下での析出kineticsを理解することは重要であるが、従来の研究は均一組成における析出kineticsに関するものがほとんどである。 本研究では、組成勾配下での析出kineticsを理論的に取り扱い、組織形成の特徴について明らかにすることを目的とする。