フッ素含有排水の処理システム

摘要

電子産業分野ではウェハ、ガラスパネルなどの原料としてシリコン(Si)が多く使用されている。 これらの製造工程のうちエッチングなどにおいて、フッ化水素(HF)、フッ化アンモニウム(NH{sub}4F)などのフッ素系の薬品が使用されている。 これらの薬品は洗浄水を含めて、フッ素含有排水として排出される。電子産業関連工場のフッ素排水基準は、2004（平成16）年7月より河川や下水放流において15mg/Lから8mg/Lに強化された。 このフッ素排水基準に対応するため、フッ素処理システムの再検討が必要となっている。 また、環境問題の高まりや最終処分場の逼迫により、排水処理で発生したフッ素含有汚泥の削減も大きな課題となっている。 本稿では、フッ素含有排水の処理システムとして汚泥減量効果の高い「高密度汚泥生成システム(KHDS5)」と、水回収技術として「高性能ROシステム」を紹介する。