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電界誘起光第2次高調波発生法による有機材料中の3次元電界評価

机译:电场感应光二次谐波产生法评估有机材料中的三维电场

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摘要

有機デバイス内のキャリア輸送を支配する電界分布は、電界誘起光第2次高調波発生(EFISHG)法によって評価できる。このEFISHGは、静電界とレーザーなどの強力な光電界との相互作用によって材料中に誘起される非線形分極から発生する。この非線形分極はベクトル量である電界と非線形感受率テンソルX_(ijkl)を用いてPi=X_(ijkl)E_j(0)E_k(ω)E_1(ω)と表される。EFISHG 法による電界評価の特徴は、電界がベクトル量であるため、入射光とSHG光の偏光を選択することで3次元的な電界評価が可能となることである。しかし、非線形感受率は材料やデバイスの作製プロセスに大きく依存するため、この非線形感受率テンソルの性質を知ることが、デバイス中の電界分布評価には重要である。本報告では、材料やプロセスによって変化する非線形感受率テンソルの特徴と、実際の電界評価に及ぼす影響について議論する。はじめに、薄膜トランジスタ構造に代表される平面型デバイスにおける2次元的な電界評価について述べ、最後に有機ELなどの縦型素子における膜厚方向の電界評価についても言及する。
机译:可以通过场感应光二次谐波产生(EFISHG)方法来评估控制有机设备中载流子传输的电场分布。这种EFISHG是由于静电场与强激光场(例如激光)相互作用而在材料中引起的非线性极化而产生的。使用矢量电场和非线性灵敏度张量X_(ijkl),将该非线性极化表示为Pi = X_(ijkl)E_j(0)E_k(ω)E_1(ω)。通过EFISHG方法进行电场评估的特征在于,由于电场是矢量,因此可以通过选择入射光和SHG光的偏振来进行三维电场评估。但是,由于非线性灵敏度主要取决于材料和器件的制造过程,因此了解非线性灵敏度张量的性质对于评估器件中的电场分布很重要。在本报告中,我们讨论了非线性灵敏度张量的特性,该特性随材料和工艺的不同而变化,并且对实际电场评估也有影响。首先,将描述以薄膜结构为代表的平面装置中的二维电场评估,最后,将提及诸如有机EL的垂直元件中沿膜厚度方向的电场评估。

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