ナノインプリント法による微細転写成形

摘要

この場合モールドもしくは基板を，UV 光を透過させる材質にする必要があり，主に石英がモールド材料として用いられる。ソフトリソグラフィーは，ハーバード大学のWhite sides教授のグループによって提案された手法で，凹凸が形成されたシリコーンゴムのPDMS （poly（dimethylsiloxane））をスタンプとし，PDMS表面に自己組織化膜を形成し，基板に密着させた後，引き離すことで，基板に自己組織化膜のパターンを転写する手法である。本稿では企業を中心とした最新のナノインプリント用樹脂，モールド，転写装置の開発情報を紹介し，ナノインプリント技術を用いた応用例及び今後のナノインプリントの展望について述べていく．