首页> 外文期刊>Кинетика и катализ >ВЛИЯНИЕ МОДИФИЦИРОВАНИЯ ОКСИДОМ ИНДИЯ НА ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, СТРУКТУРУ ГИДРОКСИЛЬНОГО ПОКРОВА И ЭЛЕКТРОНОАКЦЕПТОРНЫЕ СВОЙСТВА ДИОКСИДА Ц
【24h】

ВЛИЯНИЕ МОДИФИЦИРОВАНИЯ ОКСИДОМ ИНДИЯ НА ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, СТРУКТУРУ ГИДРОКСИЛЬНОГО ПОКРОВА И ЭЛЕКТРОНОАКЦЕПТОРНЫЕ СВОЙСТВА ДИОКСИДА Ц

机译:氧化铟的修饰对二氧化碳的相组成,羟基覆盖结构和电子电性能的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Исследование" влияние модифицирования оксидом индия на кристаллическую модификацию, гид-роксильиый покров и электроноакцепторные свойства диоксида циркония. Показано, что путем такого модифицирования могут быть получены сложные бинарные системы с высокой термической стабильностью фазы тетрагонального ZrO_2. Концентрация In~(3+) в решетке ZrO_2 слабо зависит от общего содержания In_2O_3 в системе, основная часть введенного оксида иидия локализуется в виде собственной реитгеноаморфной фазы в межкристаллитных промежутках. Формирующаяся фаза In_2O_3 в этих системах не покрывает поверхность ZrO_2, а локализуется преимущественно в межкри-сталлитном пространстве. Присутствие модифицирующего компонента оказывает воздействие на преимущественное кристаллографическое направление и дефектность формирующейся поверхности. Показано, что модифицирование влияет на структуру гидроксильного покрова и электроноакцепторные свойства диоксида циркония.
机译:研究“用氧化铟进行的改性对二氧化锆的结晶改性,羟基涂层和吸电子性能的影响。结果表明,通过这种改性,可以获得具有高热稳定性的四方ZrO_2相的复杂二元体系。在ZrO_2晶格中〜(3+)浓度In_2O_3的总含量微弱地依赖于系统中的总含量,引入的二氧化铟的主要部分以其自身的晶型相形式存在于晶间间隙中,这些系统中的形成相In_2O_3并不覆盖ZrO_2的表面,而是主要存在于晶间空间。主要的结晶方向和成形表面的缺陷表明,改性会影响羟基覆盖物的结构和二氧化锆的吸电子性能。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号