光パラメトリックチャープパルス増幅における光パラメトリック蛍光の制御と高強度光パルス発生

摘要

かつてレーザー核融合研究用の人塑ガラスレーザーでしか到達できなかったプラズマパラメーター領域が，1990年代初めごろからは実験室規模のレーザー装置Tユ（"ティーキューブ'と呼びチャープパルス増幅を発見したMourouがTable Top TWレいザ一に対して便，）た言葉）を用いて実現できるようになった．ニのことはチャープパルス増幅法（Chirped pulse amplification；CPA）の発見l）やカーレンズモード同期法の発見2J，広帯域レーザー媒質チタンサファイア結晶うーの発見によるところが人きいだろう．いずれにせよ，T〕により極めて短い時間（1ピコ秒以下'）であれば実験室規模で高エネルギー襟度状態を実現することも可能であり，ニの分野の実験的研究を行うグループを爆発的に増やすこととなった．例えばピーク出力ITW（1テラワット，l兆ワット）の装置は実際に商品として市販されており，lTWを人手して10ミクロン程度の大きさに集光したと考える．このとき，光の強度は10相W／cm2に達する．この光強度の叫二電子を放り込めば，光が作り出すAC電界により，電子は瞬時に光速近くまで加速される．すなわち規格化ベクトルポテンシャル恥は1程度になることが知られている．（なお現在では100TW／10Hzのレーザー装置も市販されるようになっている．）.