エアロゾルデポジションを用いた内蔵キャパシタ技術Development of Embedded Capacitor Technology Using Aerosol Deposition

摘要

ェアロゾルデポジションを用いた内蔵キャパシタ技術ならびにチタン酸バリウム系誘電体ASD膜の技術開発の現状および信頼性結果等について記した.上記のエアロゾルデポジションの取組みは，研究レベルから開発ステージへと移行しつつある.今後，実用化のアプリケーションの枠を拡大していくためには，さらなる特性向上を目指した材料技術開発·プロセス技術開発が必要になると考えられる.また，新しい技術であるェアロゾルデポジションを世の中に普及させていくためには，成膜装置·前二工程·役立程のプロセス開発をどの生産技術の高度化はもとよりェアロゾルデポジション用原料の開発が急務であると考えられる.ェアロゾルデポジションの技術ポテンシャルは計り知れなく，電子部品·ェレクトロニクス実装技術の分野では，ェアロゾルデポジションの特徴を活かしたさらなるアプリケーションや材料をどが出現してくると思われ，今後ともさまざまな分野で有効なコア技術として，益々注目されると考えられる.