電子産業用超純水製造システムにおける：TOC（全有機炭素）の影響

摘要

半導体製造プロセスの純水·超純水給水システムではイオンと有機物汚染に対して幾つかの最も厳しい仕様がある。 半導体産業の超純水システムではこれらの汚染物質を測定し、マネージすることにより半導体製造業者は製品の品質を改善し、製品歩留まりを極大化することを可能としてきた。 純水製造技術の進展は超純水の水質を高め、また汚染物質をモニターする測定器の革新はその水質測定に重要な役割を果たした。 これらの進展は、次々と、超純水システムにおける全ての汚染物質レベルをより低い仕様へと駆り立ててきた。 TOC（全有機炭素）分析は、超純水中の有機汚染物質、また超純水システムの「健全性」をモニターするための強力な技術である。 これまで数十年にわたり、TOCの仕様は数桁の単位で目覚ましく小さくなり、結果として低ppbレベル仕様、さらにppt検出レベルに移行している。次世代チップ技術はより狭い線幅に達すると予測されており、半導体製造業者は、使用する超純水がたんに常により低レベルの有機物·イオン汚染だけでなく、測定器が正確で、かつ素早い検出と応答能力があることを要求している。