晶析装置による排水処理·有価物回収技術

摘要

2001年6月に排出基準値が15から8mg-F/L以下に強化されたフッ素の排出源は，エレクトロニクス関連およびその周辺産業，鉄鋼業，金属材料，光学系材料産業などである。 とくに，エレクトロニクス関連産業の工場では，ウェハの洗浄薬品やエッチング薬品としてフツ酸やバッファードフツ酸（主原料フツ化アンモニウム）が多量に使用される。 これらの薬品は数％の高濃度で使用された後，その他の薬品や洗浄水と混合され，フッ化物イオンとして教百～数千mg/lの濃度で工程から排出される。近年，エレクトロニクス工場での使用済みの高濃度フツ酸は不純物が少ないため，鉄鋼業などの他産業で再利用されるようになってきているが，その排水量や廃棄物量の観点から，フッ素含有排水の効率的な処理や環境対策は大きな課題である。