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ITO膜

机译:ITO膜

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摘要

透明導電膜の中でも,スズをドープした酸化インジウム膜(Indium Tin Oxide:ITO膜)は,数千?の膜厚で90%以上の可視光透過率と10Ω/口以下の低シート抵抗を兼ね備えているため,液晶ディスプレイ(LCD),有機ELおよびプラズマディスプレイ(PDP)などフラットパネルディスプレイ(FPD)の透明電極はもとより,太陽電池や調光ガラスにも幅広く利用されてし)る。ITO膜がSnO_2やZnO膜に比べてこのように透明導電膜として利用されている理由としては,①比抵抗の低さ,②ガラス基板に対する強い付着力,③可視光に対する高い透過率,④適度な耐薬品性,⑤電気化学的な安定性を併せもつからである。 このように透明導電膜の代表的材料であるITOの薄膜化技術における現状と課題および今後の展望について解説する。
机译:在透明导电膜中,掺锡的铟锡氧化物(ITO膜)在几千?的膜厚下具有90%以上的可见光透射率和10Ω/口以下的低薄层电阻。因此,它不仅广泛用于诸如液晶显示器(LCD),有机EL和等离子显示器(PDP)的平板显示器(FPD)的透明电极,而且还广泛用于太阳能电池和调光玻璃。与SnO_2和ZnO膜相比,将ITO膜用作透明导电膜的原因如下:(1)低电阻率;(2)对玻璃基板的牢固粘合;(3)对可见光的透射率高;(4)中等。这是因为其具有优异的耐化学性和(5)电化学稳定性。通过这种方式,我们将解释ITO的减薄技术的现状和问题,ITO的减薄技术是透明导电膜的典型材料,并展望了未来的前景。

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