アドバンテストの露光ソリューション

摘要

電子ビーム（EB）露光装置は、電子源から射出された電子線を磁界レンズ·偏向器などにより収束·位置制御し、電子線レジストが塗布された露光対象基板へ照射を行うことにより目的のパターンを得る装置である。光源波長により解像性能に限界があるフォトリソグラフィとは異なり、EB露光装置は50kV程度の加速電圧を電子ビームに与えることですでに数nmの高い解像性能を得ている。