ナノパターンドメディア

摘要

ナノパターンドメディアの実現に向け，1Tビット/in~2級の記録密度を可能とする自己組織材料の開発と，自己組織配列をマスクとした磁性体ドット配列の獲得及び磁気分断を確認し，更に人工ガイドを用いて大面積無欠陥自己組織配列の可能性を示した。 これらの技術アイテムを統合し，磁気記録媒体の高密度化へのブレークスルーに向けて開発を進めていく。 なお，この研究の一部は，経済産業省による2002年度（財）光産業技術振興協会受託プロジェクト"大容量光ストレージ技術の開発事業"（2003年度からNEDO技術開発機構（独立行政法人新エネルギー·産業技術総合開発機構）プロジェクト），及び文部科学省による2005年度科学技術試験研究，RR2002"超小型·大容量ハードディスクの開発"の支援を受けて行われたものである。