В рабоме показана возможность применения обратимых сорбентов водорода системы Zr-V для внутреннего напуска рабочего газа в сильноточные импульсные плазменные устройства низкого давления. Использование внутреннего напуска водорода существенно влияет на работу как дополнительного источника заряженных частиц, так и плазменного диода. При внешнем напуске водорода возбуждение сильноточного разряда происходит через 40...50 мкс после подачи напряжения на анод ячейки. В случае внутреннего напуска время возбуждения сильноточного разряда увеличивается до 150-500 мкс в зависимости от степени выработки водорода в металлогидридном полом катоде. Однако основным, положительным моментом использования внутреннего напуска является снижение стартового рабочего давления плазменного диода до р_0 = 10~~(-3) Па по сравнению с р_0 = 2 · 10~(-2) Па при внешнем, напуске.
展开▼