光架橋性高分子液晶への偏光変調記録と偏光回折素子への応用

摘要

計算機ホログラムによる回折素子形成では，等方的位相差のデジタルパターンを計算し，それを媒体に記録することにより光学素子を形成する．ここに光学異方性を含めた光学素子の設計が可能であれば，偏光制御可能な複合光学素子が実現できる可能性がある．上記実現の為，本研究では光架橋性高分子液晶を用いて光学異方性がデジタルに記録された光学異方性回折素子を形成しその特性を評価した．