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大場隆之氏の講演--「ポスト微細化におけるウエハ一3次元積層技術」

机译:大a隆之先生的演讲“后微型化中的Wafer 1 3D层压技术”

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摘要

この講演の趣旨は、半導体の歴史は微細化だけに特化して開発してきたが、今後のシステムの高度化に追従して開発を進めると、膨大な研究費と設備投資が必要となり、ビジネスとして果たして成り立つか疑問視される。そこで新たな3次元積層技術によって克服を図る注目すべき開発の方向を示唆している。
机译:本讲座的目的是专门为微型化而开发半导体的历史,但是如果将来随着系统的成熟而发展,将需要大量的研究费用和资本投资,并且作为一项业务有人质疑它是否真的成立。因此,它提出了新的3D堆叠技术要克服的重要发展方向。

著录项

  • 来源
    《金属時評》 |2009年第2113期|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 冶金工业;
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