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トレンチIGBTの異物管理技術

机译:沟槽式IGBT异物管理技术

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摘要

スイッチングデバイスであるトレンチIGBTでは,電流のON/OFFを制御するトレンチゲートの形成が重要である。トレンチゲートは,シリコン基板に深いトレンチ形状を加工するドライエッチングプロセスによって形成される。このトレンチ形成工程で異物が発生すると,トレンチ形状が崩れ,電気的不良となる。つまり,異物を管理する技術は,トレンチIGBTの生産性向上に不可欠の技術である。本稿では,トレンチIGBTの開発及び量産に必要な異物管理技術として,“トレンチピッチの微細化によって新たに管理が必要となった異物の低減技術”と“異物発生工程の特定を短時間化できる工程解析用TEG(Test Element Group)技術”について述べる。
机译:在作为开关器件的沟槽IGBT中,重要的是形成一个控制电流ON / OFF的沟槽栅极。沟槽栅极通过干蚀刻工艺形成,该干蚀刻工艺将深沟槽形状加工成硅衬底。如果在该沟槽形成过程中产生异物,则沟槽的形状坍塌,从而导致电缺陷。换句话说,管理异物的技术对于提高沟槽IGBT的生产率是必不可少的。在本文中,作为沟槽IGBT的开发和批量生产所必需的异物管理技术,“由于沟槽间距的小型化而需要进行新管理的异物减少技术”和“可以缩短异物产生过程的识别的过程”描述了“用于分析的TEG(测试元素组)技术”。

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