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机译:通过脉冲MOCVD制备铂族金属薄膜。二。沉积钌层
High-temperature mass spectrometry; Pulsed MOCVD; Thermal decomposition processes; Volatile complexes of ruthenium(II; III) with organic ligands;
机译:通过脉冲MOCVD制备铂族金属薄膜。二。沉积钌层
机译:钌(Ru)薄膜的原子层沉积,使用乙基苯环-环己二烯Ru(0)作为铜金属化的种子层
机译:通过脉冲激光沉积在铂(111)缓冲层上生长的ZnO薄膜
机译:使用新型的基于羰基的钌前驱体和非氧化性反应物进行钌薄膜的低温原子层沉积;在铜金属化种子层上的应用
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:脉冲激光沉积与非接触原子力显微镜相结合的系统用于绝缘子金属氧化物薄膜的研究
机译:使用脉冲激光沉积的PT和不锈钢上的金属缓冲层和Y-Ba-Cu-O薄膜
机译:脉冲激光沉积外延sr(Ru(sub x)sn(sub 1-x))O(sub 3)薄膜电极和KNbO(sub 3)/ sr(Ru(sub x)sn(sub 1-x)) O(sub 3)双层