机译:在设计和开发高性能193nm光致抗蚀剂聚合物中探索酸性功能
193nm photoresist; acidic functionality; hexafluoroalcohol; fluorosulfonamide; naphthol; dissolution property; 193nm lithography; immersion lithography;
机译:在设计和开发高性能193nm光致抗蚀剂聚合物中探索酸性功能
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机译:具有离子液体氧化还原聚(乙烯醇)/磷酸的新型凝胶聚合物电解质中官能化活性炭电解质的超级电容性能。
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机译:探索高性能193NM光致抗蚀剂聚合物的设计与开发的酸性功能