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机译:方波伏安法和阻抗谱研究基本成分为20Na(2)O中心点8OSiO(2)的锡掺杂熔体中的氧化还原过程
LIME-SILICA GLASS; FLOAT GLASS; EQUILIBRIUM; IRON;
机译:方波伏安法和阻抗谱研究基本成分为20Na(2)O中心点8OSiO(2)的锡掺杂熔体中的氧化还原过程
机译:通过方波伏安法和阻抗谱研究了基本成分为16 Li_2O中心点10CaO中心点74SiO_2的锡掺杂熔体中的氧化还原平衡
机译:掺锡熔体中的方波伏安法和阻抗谱,其组成为xNa(2)O中心点15Al(2)O(3)中心点(85-x)SiO2(x = 8.5、11和16)
机译:交流阻抗技术(电化学阻抗谱)—一种酶免疫传感器在氧化还原活性壳聚糖修饰的碳纳米管薄膜涂层电极上的异质电子转移过程的研究
机译:宽带阻抗和DRIFT光谱相结合将分子筛的整体传感特性与分子过程相关联-一种弥合尺度的新方法
机译:有机薄膜修饰电极上电化学阻抗谱和方波伏安法测定水/硝基苯界面阴离子转移动力学的对比研究