Formation of silica gel surfaces having lipophobic and hydrophobic characters by a radio-frequency CF4 plasma treatment

Furukawa K.; Terayama H.; Nagata H.; Yamazaki S.; Yamauchi H. Muraoka K.; Ijiri H.

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Formation of silica gel surfaces having lipophobic and hydrophobic characters by a radio-frequency CF4 plasma treatment

机译：通过射频CF4等离子体处理形成具有疏油和疏水特性的硅胶表面

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来源
《Journal of Materials Science Letters》 |2000年第17期|共3页
作者
Furukawa K.; Terayama H.; Nagata H.; Yamazaki S.; Yamauchi H. Muraoka K.; Ijiri H.;
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正文语种 eng
中图分类工程材料学;
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