机译:煅烧温度对HMDS处理的有序介孔二氧化硅薄膜影响的研究
ordered mesoporous silica film; HMDS; calcination; MTES; Brij-76; METALLIZATION; TECHNOLOGY; DEPOSITION;
机译:煅烧温度对HMDS处理的有序介孔二氧化硅薄膜影响的研究
机译:氧等离子体中煅烧产生的介孔二氧化硅薄膜
机译:不同水热和煅烧温度制备的掺TiO2的虫洞状介孔二氧化硅的光催化性能表征与评价
机译:硅纺丝纺丝涂层的合成与表征:中孔二氧化硅膜中甲基苯噻嗪和光致发光的光致发光
机译:含光敏半导体的SBA-15介孔二氧化硅薄膜的应用及有序结晶介孔二氧化钛薄膜的开发。
机译:通过正电子湮没寿命光谱和椭圆仪孔隙测定研究的开放孔隙率和孔径分布的介孔二氧化硅膜
机译:高质量介孔二氧化硅/金膜纳米复合材料的制备:煅烧与热氢气还原