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Erfassbarkeit von Reinheitseinflussen auf die Zuverlassigkeit von Leistungselektroniken

机译:纯度对电力电子设备可靠性影响的可检测性

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摘要

In der Produktion von High-Powermodulen ist die Reinigung vor dem Drahtbonden und Vergiessen bzw. Molden etabliert. Die direkte Messbarkeit der Reinheit auf den Leistungselektroniken und damit gezielte, transparente Optimierung der Reinigungsprozesse ist begrenzt. Durch ein verbessertes Verstandnis, welche Reinheitsanforderungen minimal benotigt werden, liessen sich Kostenpotentiale ohne Einbusse der Zuverlassigkeit erschliessen. Wenn der Reinheitsgrad als Funktionalitat der Oberfachen fur den nachfolgend anstehenden Prozess gesehen wird, dann ist neben ionischen/salzartigen und organisch, filmbildenden Verunreinigungen auch der Aktivierungszustand der Oberflache im Hinblick auf die Bondbarkeit sowie der Haftung von Verguss und EMC-Mold zu diskutieren. Die Prasentation beleuchtet die aktuelle Pruf- und Interpretierbarkeit der ionischen und organischen Reinheit. Hinsichtlich der ionischen und organischen Verunreinigungen werden die Nachweismoglichkeiten und Grenzen der derzeit etablierten Verfahren: Kontaminationsmessung nach IPC-TM 650, Ionenchromatographie, FTIR- und Augerspektroskopie hinterfragt. Es werden weiterhin die Chancen neuer Ansatze, insbesondere durch Kontaktwinkelmessungen angedacht. Ein Reinigungsprozess bietet die Moglichkeit nicht nur die Bondbarkeit sondern auch die Haftkrafte eines Vergusses oder Mold zu maximieren sowie deren Streuung/Standardabweichung zu minimieren. Im vorliegenden Artikel wird gezeigt, wie sich unterschiedliche Reinigungsprozesse auswirken. In der Untersuchung wurden neben verschiedenen Reinigungschemikalien vor allem auch die Spulschritte variiert. Hierdurch wird sichtbar, dass die Reinigerchemie primar auf die maximale Hohe der Haftkraft, die Spulung die Minimierung der Streuung beeinflusst. Die Moglichkeit durch die Spulung die Standardabweichung zu verkleineren hangt wiederum vom Reinigersystem ab.
机译:在大功率模块的生产中,需要在引线键合,灌封或模制之前进行清洁。功率电子设备上纯度的直接可测量性以及清洁过程的针对性,透明的优化受到限制。通过更好地了解对最低纯度要求的要求,可以在不牺牲可靠性的情况下挖掘成本潜力。如果将纯度视为后续过程中表面的功能,那么除了离子/盐样和有机,成膜杂质外,还必须讨论表面在粘合性以及灌封和EMC模具粘附性方面的活化状态。该演讲重点介绍了离子和有机纯度的当前可验证性和可解释性。关于离子和有机杂质,检测的可能性和当前建立的程序的局限性:根据IPC-TM 650进行污染测量,离子色谱,FTIR和俄歇光谱法受到质疑。仍在考虑采用新方法的机会,特别是通过接触角测量。清洁过程不仅可以最大程度地提高粘合性,而且还可以使灌封或铸模的粘合力最大化,并最大程度地降低其铺展/标准偏差。本文显示了不同清洁过程的效果。在调查中,除了各种清洁化学品外,卷绕步骤也有所不同。这表明去污剂的化学性质主要影响最大的粘合力,从而使漂洗最小化。再次通过冲洗降低标准偏差的可能性取决于清洁系统。

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