机译:高氧气压和高温下原位XPS的WO_(3-δ)/ TiO2脉冲激光沉积薄膜中基体取向相关的氧缺陷填充的观察
tungsten oxide; oxygen defect; oxygen vacancy; valence band; photoemission spectroscopy; XPS; defect filling; ambient-pressure XPS; photoanode; solar water splitting; thin film; WO3; TiO2; photoekctrochemistry; interdifiusion; diffusion barrier;
机译:高氧气压和高温下原位XPS的WO_(3-δ)/ TiO2脉冲激光沉积薄膜中基体取向相关的氧缺陷填充的观察
机译:125 nm WO_(3-δ)/ TiO2(110)薄膜中费米能级附近的表面和大量氧空位缺陷态:共振价带光电子能谱研究
机译:脉冲激光沉积Bi2O3:HO3薄膜的晶体结构对晶体结构,形态学和发光性能的影响:HO3薄膜
机译:用R.F.研究LaNiO_(3-δ)薄膜的RT电阻率。在不同衬底温度下具有不同氧分压百分比的磁控溅射
机译:钇(1)钡(2)铜(3)氧(7-x)超导体薄膜中的膜-基底相互作用,沉积在氧化物和碱土金属氟化物基底上。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积Bi2O3:HO3 +薄膜晶体结构对晶体结构,形态学和发光性能的影响:HO3 +薄膜