首页>
外文期刊>Przemysl Chemiczny
>Zastosowanie odczynnika Fentona i metody UV/H2O2 do usuwania zanieczyszczen organicznych ze sciekow z produkcji azotanu 2-etyloheksylowego
【24h】
Zastosowanie odczynnika Fentona i metody UV/H2O2 do usuwania zanieczyszczen organicznych ze sciekow z produkcji azotanu 2-etyloheksylowego
Przedstawiono wyniki badan nad usuwaniem zanieczyszczen organicznych wyrazonych jako ChZT ze sciekow z produkcji azotanu 2-etyloheksylowego, wybranymi metodami poglebionego utleniania. Stwierdzono, ze zarowno zastosowanie odczynnika Fentona jak i metody UV/H2O2 w odpowiednich warunkach prowadzenia procesu umozliwia zmniejszenie wartosci ChZT w sciekach do granicy dopuszczalnej w obowiazujacych przepisach prawa. Zastosowanie obu metod zwieksza rowniez podatnosc sciekow na biodegradacje (wzrost wartosci BZT5/ChZT) oraz zmniejsza wartosc stosunku ChZT/OWO, co swiadczy o rozkladzie i zmianie wlasciwosci chemicznych zanieczyszczen w trakcie chemicznego utleniania.
展开▼