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European Mask and Lithography conference
European Mask and Lithography conference
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1.
Feasibility of monitoring a multiple e-beam tool using scatterometry and machine learning: stitching error detection
机译:
使用散射测量和机器学习监控多e-梁工具的可行性:缝合错误检测
作者:
Guido Rademaker
;
Yoann Blancquaert
;
Thibault Labbaye
;
Lucie Mourier
;
Nivea Figueiro
;
Francisco Sanchez
;
Roy Koret
;
Jonathan Pradelles
;
Stéfan Landis
;
Stéphane Rey
;
Ronny Haupt
;
Barak Bringoltz
;
Michael Shifrin
;
Daniel Kandel
;
Avron Ger
;
Matthew Sendelbach
;
Shay Wolfling
;
Laurent Pain
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
machine learning;
optical critical dimension;
multiple electron beam lithography;
maskless lithography;
stitching;
spectroscopic reflectometry;
2.
CK-MASK semi-manual tool for mask inspection and blowing
机译:
CK - 面膜半手动工具,用于面罩检查和吹送
作者:
Andrea Leserri
;
Francesco Ferrario
;
Umberto lessi
;
Andrea Gusmini
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
periodical;
inspection;
cleaning;
3.
Curvilinear Data Processing Methods and Verification
机译:
曲线数据处理方法和验证
作者:
Clyde Browning
;
Serguei Postnikov
;
Matthieu Milléquant
;
Sébastien Bayle
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Designs;
photonic;
devices;
4.
Measuring inter-layer edge placement error with SEM contours
机译:
使用SEM轮廓测量层间边缘放置误差
作者:
Fran?ois Weisbuch
;
Jirka Schatz
;
Matthias Ruhm
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
EPE;
inter-layer;
SEM;
Contour;
etch;
overlay;
pattern;
alignment;
5.
Multi-Trigger Resist for Electron Beam and Extreme Ultraviolet Lithography
机译:
电子束和极端紫外线光刻的多触发抗蚀剂
作者:
C. Popescu
;
A. McClelland
;
D. Kazazis
;
G. Dawson
;
J. Roth
;
Y. Ekinci
;
W. Theis
;
A.P.G. Robinson
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
multi-trigger;
molecular resist;
quencher stochastics;
6.
Lithography technology and trends for More than Moore devices Advanced Packaging MEMS devices
机译:
光刻技术和趋势超过摩尔设备先进的包装和MEMS器件
作者:
Amandine PIZZAGALLI
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Lithography;
resolution;
RDL;
wafer warpage;
Depth of Focus (DOF);
Advanced Packaging;
MEMS;
More than Moore;
7.
FEM simulation of charging effect during SEM metrology
机译:
EMM计量期间充电效果的有限元模拟
作者:
Duy Duc Nguyen
;
Jean-Herve Tortai
;
Mohamed Abaidi
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Ebeam lithography;
FEM;
FEniCS;
charging effect;
8.
Plasmonic resonances in metal covered 2D hexagonal gratings fabricated by interference lithography
机译:
金属覆盖的2D六角形光栅覆盖的等离子体共振
作者:
Andrei A. USHKOV
;
Maxime BICHOTTE
;
Isabelle VERRIER
;
Thomas KAMPFE
;
Yves JOURLIN
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
plasmonics;
interference lithography;
2D grating;
sensitivity curve;
numerical calculation;
9.
Revival of grayscale technique in power semiconductor processing under low-cost manufacturing constraints
机译:
低成本制造限制下功率半导体处理灰度技术的复苏
作者:
Jens Schneider
;
Dieter Kaiser
;
Nicolo Morgana
;
Heller Marcel
;
Henning Feick
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
grayscale;
3D lithography;
implant;
simulation;
devices optimization;
10.
Accurate determination of 3D PSF and resist effects in grayscale laser lithography
机译:
精确确定灰度激光光刻中的3D PSF和抗蚀作用
作者:
Temitope Onanuga
;
Corinna Kaspar
;
Holger Sailer
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
grayscale lithography;
point spread function;
resist model;
proximity effect correction;
11.
Research on Data Augmentation for Lithography Hotspot Detection Using Deep Learning
机译:
深度学习的光刻热点检测数据增强研究
作者:
Vadim Borisov
;
Jürgen Scheible
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
lithography;
lithography hotspot detection;
deep learning;
convolution neural networks;
machine learning;
data augmentation;
12.
On the road to automated production workflows in the back end of line
机译:
在线的自动化生产工作流程的道路上
作者:
Gilles Tabbone
;
Kokila Egodage
;
Kristian Schulz
;
Anthony Garetto
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
AIMS;
MeRiT;
review;
repair;
SEM;
automation;
FAVOR;
BEOL;
13.
Photonic superlattice multilayers for EUV lithography infrastructure
机译:
用于EUV光刻基础设施的光子超晶格多层
作者:
F. Kuchar
;
R. Meisels
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Photonic crystals;
Bragg reflectors;
extreme ultraviolet;
superlattices;
14.
Fast local registration measurements for efficient e-beam writer qualification and correction
机译:
快速局部注册测量,以了解高效的电子束作用资格和校正
作者:
Klaus-Dieter Roeth
;
Hendrik Steigerwald
;
Runyuan Han
;
Oliver Ache
;
Frank Laske
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
LMS IPRO;
metrology;
registration;
local E-Beam error;
15.
Alternative absorber materials for mitigation of mask 3D effects in high NA EUV lithography
机译:
替代吸收材料,用于减轻高NA EUV光刻中的掩模3D效应
作者:
F.J. Timmermans
;
C. van Lare
;
J. McNamara
;
E. van Setten
;
J. Finders
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Mask 3D effects;
Absorber development;
high-k absorber;
attenuated phase shift mask;
16.
Application of rules-based corrections for wafer scale nanoimprint processes and evaluation of predictive models
机译:
基于规则的校正对晶圆级纳米视图过程的应用及预测模型评估
作者:
H. Teyssedre
;
P. Quemere
;
J. Chartoire
;
F. Delachat
;
F. Boudaa
;
L. Perraud
;
M. May
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
CDU;
nanoimprint;
UV-NIL;
high volume manufacturing;
design rules;
calibration;
17.
Microlens under Melt in-Line Monitoring based on application of Neural Network Automatic Defect Classification.
机译:
基于神经网络自动缺陷分类的熔体在线监测下的微透镜。
作者:
Julien Ducoté
;
Amine Lakcher
;
Laurent Bidault
;
Antoine-Regis Philipot
;
Alain Ostrovsky
;
Etienne Mortini
;
Bertrand Le-Gratiet
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
usage;
convolutional;
neural;
18.
Fabrication of nanoparticles for biosensing using UV-NIL and lift-off
机译:
使用UV-NIL和剥离制备用于生物传感的纳米粒子
作者:
Tina Mitteramskogler
;
Michael J. Haslinger
;
Astrit Shoshi
;
Stefan Schrittwieser
;
Joerg Schotter
;
Hubert Brueckl
;
Michael Muehlberger
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Nanoimprint lithography;
Magnetic and plasmonic nanoparticle;
Biosensor;
Lift-off;
19.
Deposition Durability of e-Beam Mask Repair
机译:
电子梁掩模修复的沉积耐久性
作者:
Thorsten Krome
;
Christian Holfeld
;
Tim Gohler
;
Pavel Nesladek
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Photomask repair;
deposition;
durability;
clear defect;
degradation;
e-beam repair;
20.
Approach to combine electron-beam lithography and two-photon polymerization for enhanced nano-channels in network-based biocomputation devices
机译:
基于网络的生物动力化装置中增强纳米通道的电子束光刻和双光子聚合的方法
作者:
G. Heldt
;
Ch. Meinecke
;
S. Steenhusen
;
T. Korten
;
M. GroB
;
G. Domann
;
F. Lindberg
;
D. Reuter
;
St. Diez
;
H. Linke
;
St. E. Schulz
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
network-based biocomputation;
two-photon polymerization;
error-free junctions;
21.
Manufacturing of roughness standard samples based on ACF/PSD model programming
机译:
基于ACF / PSD模型编程的粗糙度标准样品制造
作者:
Jér?me Reche
;
Maxime Besacier
;
Patrice Gergaud
;
Yoann Blancquaert
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Roughness;
PSD;
LWR;
CD-SEM;
Manufacturing;
Standard sample;
22.
Deep Supervised Learning to Estimate True Rough Line Images From SEM Images
机译:
深度监督学习估算SEM图像真实粗略线图像
作者:
Narendra Chaudhary
;
Serap A. Savari
;
S.S. Yeddulapalli
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Line Edge Roughness;
Scanning Electron Microscopy;
Deep Learning;
Stochastics;
Denoising;
23.
Machine learning methods applied to process qualification
机译:
机器学习方法应用于流程资格
作者:
Mark Herrmann
;
Stefan Meusemann
;
Clemens Utzny
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
critical dimensions (CD);
CD uniformity (CDU);
machine learning;
advanced process control;
run to run control;
Bayes classifier;
back up tool qualification;
24.
THE (ALMOST) COMPLETELY AUTOMATED 12'-LITHOGRAPHY
机译:
(几乎)完全自动化12“ - 光刻
作者:
Jens Seyfert
;
Lars Albinus
;
Jens Arnold
;
Silvio Fritsche
;
Steffen Habel
;
Michael Mitrach
;
Mario Stephan
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
economic;
success;
semiconductor;
25.
Towards Fab Cycle Time Reduction by Machine Learning based Overlay Metrology
机译:
通过基于机器学习的覆盖计量来朝Fab循环时间减少
作者:
Faegheh Hasibi
;
Leon van Dijk
;
Maialen Larranaga
;
Anne Pastol
;
Auguste Lam
;
Richard van Haren
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Machine learning;
overlay prediction;
neural networks;
overlay control;
process optimization;
26.
Performance validation of Mapper FLX-1200
机译:
Mapper FLX-1200的性能验证
作者:
Jonathan Pradelles
;
Yoann Blancquaert
;
Stefan Landis
;
Laurent Pain
;
Guido Rademaker
;
Isabelle Servin
;
Guido de Boer
;
Pieter Brandt
;
Michel Dansberg
;
Remco Jager
;
Jerry Peijster
;
Erwin Slot
;
Stijn Steenbrink
;
Marco Wieland
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
electron beam lithography;
maskless;
throughput;
direct-write;
27.
Maximizing Utilization of Large-Scale Mask Data Preparation Clusters
机译:
最大限度地利用大型掩模数据准备群集
作者:
Pascal Gilgenkrantz
;
Stephen Kim
;
Wooil Han
;
Minyoung Park
;
Min Tsao
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
MDP;
OPC;
MPC;
DCA;
PTO;
compute cluster;
runtime;
optimization;
28.
Limits of model-based CD-SEM metrology
机译:
基于模型的CD-SEM Metrology的限制
作者:
Jordan Belissard
;
Jér?me Hazart
;
Stéphane Labbé
;
Faouzi Triki
会议名称:
《European Mask and Lithography conference》
|
2018年
关键词:
Critical dimension;
CD-SEM;
model-based;
metrology;
SEM simulation;
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