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Conference on Optical/Laser Microlithography
Conference on Optical/Laser Microlithography
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1.
Improvement of the ArF laser for photolithography
机译:
用于光刻法的ARF激光器的改进
作者:
Alexander N. Novoselov
;
Boris A. Konstantinov
;
Victor G. Nikiforov
;
Boris F. Trinchuk
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
2.
Fast optical proximity correction: analytical method
机译:
快光接近校正:分析方法
作者:
Satomi Shioiri
;
Hiroyoshi Tanabe
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
3.
Optical proximity correction on attenuated phase-shifting photo mask for dense contact array
机译:
密集接触阵列减毒相移光掩模的光学接近校正
作者:
Yong K. Choi
;
Young J. Song
;
Hong-Seuk Kim
;
Woo S. Kim
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
4.
Implementation of i-line lithography to 0.30 um design rules
机译:
I-LINE光刻的实现为0.30 UM设计规则
作者:
Keun-Young Kim
;
Hung-Eil Kim
;
Ill-Ho Lee
;
Jin-Su Kim
;
Jun-Sung Chun
;
Ik-Boum Hur
;
Seung-Chan Moon
;
Ki-Ho Baik
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
5.
Effects of wafer topography on the formation of polysilicon gates
机译:
晶圆形貌对多晶硅闸门形成的影响
作者:
Robert J. Socha
;
Alfred K. Wong
;
Myron R. Cagan
;
Zoran Krivokapic
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
6.
Pattern-dependent correction of mask topography effects for alternating phase-shifting masks
机译:
用于交替相移掩模的掩模地形效果的模式依赖性校正
作者:
Richard A. Ferguson
;
Alfred K. Wong
;
Timothy A. Brunner
;
Lars W. Liebmann
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
7.
Printability study of opaque and transparent defects using standard and modified illumination
机译:
使用标准和改性照明的不透明和透明缺陷的可印刷性研究
作者:
S.Y. Shaw
;
Shane R. Palmer
;
Steven J. Schuda
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
8.
Quantifying proximity and related effects in advanced wafer processes
机译:
量化高级晶片过程中的接近和相关效果
作者:
John P. Stirniman
;
Michael L. Rieger
;
Robert Gleason
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
9.
Practical evaluation of optical-proximity effect correction by EDM methodology
机译:
EDM方法的光学邻近效应校正的实际评估
作者:
Minoru Sugawara
;
Hiroichi Kawahira
;
Keisuke Tsudaka
;
Satoru Nozawa
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
10.
Impact of local partial coherence variations on exposure tool performance
机译:
局部部分相干变化对曝光工具性能的影响
作者:
Yan Borodovsky
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
11.
New system for fast submicron laser direct writing
机译:
快速亚微米激光直接写作的新系统
作者:
Heinz Kueck
;
Michael Bollerott
;
Wolfgang Doleschal
;
Andreas Gehner
;
Wolfram Grundke
;
Detlef Kunze
;
Rolf Melcher
;
Joerg Paufler
;
Rolf Seltmann
;
Guenter Zimmer
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
12.
New spatial frequency doubling method for sub-0.15-um optical lithography
机译:
亚015μm光学光刻的新空间倍增方法
作者:
Akihiro Otaka
;
Yoshio Kawai
;
Akinobu Tanaka
;
Tadahito Matsuda
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
13.
Using the focus monitor test mask to characterize lithographic performance
机译:
使用焦点监视器测试掩码来表征光刻性能
作者:
Rebecca D. Mih
;
Alexander L. Martin
;
Timothy A. Brunner
;
David T. Long
;
Diane L. Brown
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
14.
KrF excimer laser with repetition rates of 1 kHz for DUV lithography
机译:
KRF准分子激光器,具有1 kHz的重复率为DuV光刻
作者:
Rainer Paetzel
;
J.Kleinschmidt
;
Ulrich Rebhan
;
Jim Franklin
;
H.Endert
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
15.
Optical lithography technique with dummy diffraction mask for 0.20 um T-shaped gate formation
机译:
具有0.20μmT形栅极形成的虚设衍射掩模的光学光刻技术
作者:
Byung-Sun Park
;
Yong H. Oh
;
Sang-Soo Choi
;
Hai Bin Chung
;
Hyung J. Yoo
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
16.
Yield modeling and enhancement for optical lithography
机译:
光学光刻的产量建模和增强
作者:
Edward W. Charrier
;
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
17.
Simulation study of a new phase-shifting mask: halftone-rim
机译:
新迁移掩模的仿真研究:半色调边缘
作者:
Wen-An Loong
;
Chin-hwa Yeh
;
Shyi-Long Shy
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
18.
Improving the backend focus budget for 0.5 um lithography
机译:
改善0.5 um光刻的后端焦点预算
作者:
Satyendra S. Sethi
;
A.Flores
;
P.McHale
;
R.Booth
;
Steve W. Graca
;
S.Frezon
;
C.Fruga
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
19.
Fast low-complexity mask design
机译:
快速低复杂性面膜设计
作者:
Nicolas B. Cobb
;
Avideh Zakhor
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
20.
Efficient 3D phase-shifting mask lithography simulation
机译:
高效的3D相移掩模光刻模拟
作者:
Kevin D. Lucas
;
Andrzej J. Strojwas
;
Hiroyoshi Tanabe
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
21.
Feature biasing versus feature-assisted lithography: a comparison of proximity correction methods for 0.5*(lambda/NA) lithography
机译:
特征偏置与特征辅助光刻:0.5 *(Lambda / NA)光刻的接近校正方法的比较
作者:
Rainer Pforr
;
Kurt Ronse
;
Luc Van den hove
;
Anthony Yen
;
Shane R. Palmer
;
Gene E. Fuller
;
Oberdan W. Otto
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
22.
Antireflection coating process characterization and improvement for DUV lithography at 0.25 um: ground rules
机译:
抗反射涂层工艺表征和改进DuV光刻在0.25 um:地面规则
作者:
John L. Sturtevant
;
M.Chaara
;
R.Elliot
;
Larry D. Hollifield
;
Robert A. Soper
;
David R. Stark
;
Nathan S. Thane
;
John S. Petersen
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
23.
Sub-half-micron i-line photolithography process using AZ BARLi
机译:
使用Az Barli的次半微米I线光刻过程
作者:
Jeffrey R. Johnson
;
Todd H. Gandy
;
Gregory J. Stagaman
;
Ronald J. Eakin
;
John C. Sardella
;
Charles R. Spinner
;
Fu-Tai Liou
;
Mark A. Spak
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
24.
Automated design of halftoned double-exposure phase-shifting masks
机译:
半色调双曝光相位移位面罩的自动设计
作者:
Yao-Ting Wang
;
Yagyensh C. Pati
;
Hisashi Watanabe
;
Thomas Kailath
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
25.
Integrating proximity effect corrections with photomask data preparation
机译:
通过光掩模数据准备整合接近效应校正
作者:
Oberdan W. Otto
;
Richard C. Henderson
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
26.
Influence of substrate reflectivity on linewidth control
机译:
基板反射率对线宽控制的影响
作者:
Hans Vloeberghs
;
Ivan S. Daraktchiev
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
27.
Total overlay analysis for designing future aligner
机译:
设计未来对齐器的总叠加分析
作者:
Nobutaka Magome
;
Hidemi Kawai
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
28.
Sub-micron low-k1 imaging characteristics using a DUV printing tool and binary masks
机译:
使用DUV打印工具和二进制掩模的子微米低K1成像特性
作者:
Pei-yang Yan
;
Robert F. Hainsey
;
Jeff N. Farnsworth
;
Julaine H. Neff
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
29.
193-nm full-field step-and-scan prototype at MIT Lincoln Laboratory
机译:
MIT LINCOLN实验室的193-NM全场阶梯式原型
作者:
Michael S. Hibbs
;
Roderick R. Kunz
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
30.
New generation i-line lens for 0.35-um lithography
机译:
新一代I-LINE镜头为0.35-UM光刻
作者:
Hiroyuki Ishii
;
Yoshio Kawanobe
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
31.
Effect of pattern density for contact windows in an attenuated phase shift mask
机译:
衰减相移掩模中接触窗口的图案密度的影响
作者:
Ik-Boum Hur
;
Ju-Hwan Kim
;
Ill-Ho Lee
;
Hung-Eil Kim
;
Chang-Nam Ahn
;
Ki-Ho Baik
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
32.
Study of optical proximity effects using off-axis illumination with attenuated phase shift mask
机译:
用衰减相移掩模使用偏离轴照明的光学接近效应研究
作者:
Chang-Nam Ahn
;
Ki-Ho Baik
;
Yong-Suk Lee
;
Hung-Eil Kim
;
Ik-Boum Hur
;
Young-Sik Kim
;
Ju-Hwan Kim
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
33.
Effect of resist surface insoluble layer in attenuated phase-shift mask for window pattern formation
机译:
抗蚀剂表面不溶性层在减振相移掩模中的影响窗图案形成
作者:
Tadao Yasuzato
;
Shinji Ishida
;
Kunihiko Kasama
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
34.
Lithography and the future of Moore's law
机译:
光刻和摩尔定律的未来
作者:
Gordon E. Moore
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
35.
Reduction of ASIC gate-level line-end shortening by mask compensation
机译:
通过掩模补偿减少ASIC栅极级线结束缩短
作者:
Joseph G. Garofalo
;
John DeMarco
;
J.Bailey
;
Jiabei Xiao
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
36.
SEMATECH and the national technology roadmap: needs and challenges
机译:
SEMATECH和国家技术路线图:需求和挑战
作者:
Karen H. Brown
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
37.
Relative merits of using maximum error versus 3(sigma) in describing the performance of laser-exposure reticle writing systems
机译:
使用最大误差与3(Sigma)的相对优点在描述激光曝光掩模版写入系统的性能时
作者:
Henry C. Hamaker
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
38.
Automatic laser-scanning focus detection method using printed focus pattern
机译:
自动激光扫描聚焦检测方法使用印刷焦点图案
作者:
Kyoichi Suwa
;
Hiroki Tateno
;
Nobuyuki Irie
;
Shigeru Hirukawa
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
39.
Comparison of state-of-the-art DUV lenses
机译:
最先进的DUV镜片比较
作者:
Tracy K. Lindsay
;
Neal T. Sullivan
;
Sasha K. Dass
;
Gregory W. Pollard
;
Bill Jones
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
40.
Lithography for ULSI
机译:
Ulsi的光刻
作者:
Shinji Okazaki
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
41.
Practical use of simulation for advanced lithography techniques
机译:
先进光刻技术的仿真实际用途
作者:
Leonhard Mader
;
Norbert Lehner
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
42.
OPTIMASK: an OPC algorithm for chrome and phase-shift mask design
机译:
优化:Chrome和相移掩模设计的OPC算法
作者:
Eytan Barouch
;
Uwe Hollerbach
;
R.Vallishayee
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
43.
Automated layout of mask assist-features for realizing 0.5 k1 ASIC lithography
机译:
自动布局的面罩辅助 - 实现0.5 K1 AsiC光刻的功能
作者:
Joseph G. Garofalo
;
Oberdan W. Otto
;
Raymond A. Cirelli
;
Robert L. Kostelak
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
44.
Photolithographic mask aligner based on modified moire technique
机译:
基于改进的莫尔技术的光刻掩模对准器
作者:
Rina Sharma
;
N.D. Kataria
;
V.N. Ojha
;
Alok K. Kanjilal
;
Ram Narain
;
Vijay T. Chitnis
;
Yoshiyuki Uchida
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
45.
Optimum combination of source mask and filter for better lithographic performance
机译:
用于更好的光刻性能的源码掩模和滤波器的最佳组合
作者:
Hye-Keun Oh
;
Jeong-Ung Koo
;
Young-Min Cho
;
Byung-Sun Park
;
Hai Bin Chung
;
Hyung J. Yoo
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
46.
In-situ optimization of an i-line optical projection lens
机译:
I-Line光学投影镜头的原位优化
作者:
Chunsheng Huang
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
47.
Feasibility study of argon fluoride excimer laser for microlithography
机译:
用于微光学氩氟化物准分激光的可行性研究
作者:
Hiroshi Komori
;
Hidetomi Ochi
;
Osamu Wakabayashi
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
48.
Deep-UV lithography using continuous-wave 266-nm radiation from an all solid state frequency quadrupled Nd:YAG laser
机译:
来自所有固态频率四分之一的Nd:YAG激光器的连续波266-nm辐射的深紫色光刻
作者:
Hiroshi Suganuma
;
Minoru Takeda
;
Michio Oka
;
Naoto Ozaki
;
Motohisa Haga
;
Shigeo Kubota
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
49.
Impact of optical thin film effects on CD control in DUV lithography
机译:
光学薄膜效应对DUV光刻CD控制的影响
作者:
Raymond A. Cirelli
;
Joseph G. Garofalo
;
Eric L. Raab
;
Jiabei Xiao
;
Robert J. Socha
;
Sheila Vaidya
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
50.
UV radiometry issues for UV stabilization of photoresist
机译:
用于光致抗蚀剂的UV稳定化的UV辐射测量问题
作者:
Jianou Shi
;
Steven P. Grindle
;
Sharine Chen
;
Greg Owen
;
Linda J. Insalaco
;
Christopher L. Cromer
;
Lori Goldner
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
51.
Fidelity comparison of island patterns with different types of illuminations and phase shift masks
机译:
不同类型的照明和相移掩模的岛屿模式的保真比较
作者:
Seong-Yong Moon
;
Woo-Sung Han
;
Sang-Gyun Woo
;
Chang-Jin Sohn
;
Chul Hong Kim
;
Young-Bum Koh
;
Moon-Yong Lee
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
52.
New interferometric phase-shifting technique for sub-half-micron laser microlithography
机译:
亚半微米激光微光刻的新型干涉相移技术
作者:
Miklos Erdelyi
;
Chaitali Sengupta
;
Zsolt Bor
;
Joseph R. Cavallaro
;
Motoi Kido
;
Michael C. Smayling
;
Frank K. Tittel
;
William L. Wilson
;
Gabor Szabo
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
53.
Comparative study of i-line and DUV lithography for 0.35 um and beyond
机译:
I-LINE和DUV光刻的比较研究0.35 um及更远
作者:
Nandasiri Samarakone
;
Wayne H. Chang
;
Erik Tandberg
;
Christina Elliot
;
Timothy Wang
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
54.
Air-turbulence-compensated interferometer for IC manufacturing
机译:
IC制造的空气湍流补偿干涉仪
作者:
Steven A. Lis
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
55.
Process capabilities of critical dimensions at gate mask
机译:
门蒙蔽临界尺寸的过程能力
作者:
Zoran Krivokapic
;
William D. Heavlin
;
David F. Kyser
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
56.
Dual-wavelength interferometer for testing projection lenses
机译:
用于测试投影镜头的双波长干涉仪
作者:
Klaus R. Freischlad
;
Chunsheng Huang
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
57.
Detailed study of a phase shift focus monitor
机译:
相移焦点监视器的详细研究
作者:
Graham M. Pugh
;
Brian R. DeWitt
;
Craig B. Sager
;
Patrick Reynolds
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
58.
Fast algorithms for 3D high NA lithography simulation
机译:
3D高NA光刻模拟的快速算法
作者:
Qi-De Qian
;
Francisco A. Leon
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
59.
Focus effects in submicron optical lithography part 4: metrics for depth of focus (Oral Standby)
机译:
焦点光学光刻的重点效应第4部分:焦点深度的指标(口腔待机)
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
60.
Step and scan: the maturing technology
机译:
步骤和扫描:成熟技术
作者:
Harry Sewell
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
61.
Subquarter micron optical lithography with practical superresolution technique
机译:
具有实用超级化技术的次级变微米光学光刻
作者:
Tohru Ogawa
;
Masaya Uematsu
;
Fumikatsu Uesawa
;
Mitsumori Kimura
;
Hideo Shimizu
;
Tatsuji Oda
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
62.
Comparison of scalar and vector modeling of image formation in photoresist
机译:
测量师图像形成的标量和矢量建模的比较
作者:
Chris A. Mack
;
Ching-Bo Juang
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
63.
Degradation of fused silica at 193 nm and 213 nm
机译:
193nm和213nm的熔融二氧化硅的降解
作者:
Richard E. Schenker
;
Ludwig Eichner
;
Hem Vaidya
;
Sheila Vaidya
;
William G. Oldham
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
64.
Contact performance with an attenuated phase shift reticle and variable partial coherence
机译:
接触性能具有衰减相移掩模版和可变部分连贯性
作者:
William L. Krisa
;
Cesar M. Garza
;
Robert D. Bennett
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
65.
Lithography strategy for printing 0.35 um devices
机译:
印刷0.35 UM器件的光刻策略
作者:
Satyendra S. Sethi
;
Mark W. Barrick
;
J.Massey
;
C.Froelich
;
Michele R. Weilemann
;
F.Garza
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
66.
Role of illumination and thin film layers on the printability of defects
机译:
照明和薄膜层对缺陷的可印刷性的作用
作者:
Robert J. Socha
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
67.
Optical proximity correction using a transmittance-controlled mask (TCM)
机译:
使用透射率控制的面罩(TCM)光学接近校正
作者:
Woo-Sung Han
;
Chang-Jin Sohn
;
Yong-Beom Kim
;
Kee-Ho Kim
;
Ho-Young Kang
;
Young-Bum Koh
;
Moon-Yong Lee
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
68.
0.35-um i-line poly processing with a bottom antireflective coating (BARC)
机译:
0.35-UM I-LINE多加工,底部抗反射涂层(BARC)
作者:
William L. Krisa
;
Cesar M. Garza
;
J.A. McKee
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
69.
Low cost of ownership KrF excimer laser using a novel pulse power and chamber configuration
机译:
使用新颖的脉冲功率和腔室配置,低拥有KRF准分子激光器成本
作者:
William N. Partlo
;
Richard L. Sandstrom
;
Igor V. Fomenkov
;
Palash P. Das
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
70.
Partial rim: a new design of rim phase shift mask for submicron contact holes
机译:
部分轮辋:亚微米接触孔的边缘相移掩模的新设计
作者:
Zheng Cui
;
Philip D. Prewett
;
Brian Martin
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
71.
Focus shift and process latitude of contact holes on attenuated phase-shifting masks
机译:
焦点换档和接触孔的过程纬度在减弱的相移掩模上
作者:
Alfred K. Wong
;
Richard A. Ferguson
;
Ronald M. Martino
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Optical/Laser Microlithography》
|
1995年
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