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Optical/Laser Microlithography VI
Optical/Laser Microlithography VI
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1.
Quarter-micron lithography using a deep-UV stepper with modified illumination
机译:
使用具有改进照明的深紫外步进器进行的四微米光刻
作者:
Author(s): Anthony Yen Texas Instruments Inc. Dallas TX USA
;
William N. Partlo GCA/Tropel Fairport NY USA
;
Shane R. Palmer Texas Instruments Inc. Dallas TX USA
;
Maureen A. Hanratty Texas Instruments Inc. Dallas TX USA
;
Michael C. Tipton Texas Instruments Inc. Dallas TX USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
2.
Suitability of high-numerical-aperture i-line steppers with oblique illumination for linewidth control in 0.35-um complex circuit patterns
机译:
斜照明高数值孔径i线步进器适用于0.35um复杂电路图案中的线宽控制
作者:
Author(s): Michael K. Templeton Advanced Micro Devices Inc. Sunnyvale CA USA
;
Eytan Barouch Princeton Univ. Princeton NJ USA
;
Uwe Hollerbach Princeton Univ. Princeton NJ USA
;
Steven A. Orszag Princeton Univ. Princeton NJ USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
3.
Parametric studies and the operating latitude of a spectrally narrowed KrF excimer laser for the deep-UV stepper
机译:
用于深紫外步进器的光谱变窄的KrF准分子激光器的参数研究和工作范围
作者:
Author(s): Uday K. Sengupta Cymer Laser Technologies Inc. San Diego CA USA
;
Toshihiko Ishihara Cymer Laser Technologies Inc. San Diego CA USA
;
Richard L. Sandstrom Cymer Laser Technologies Inc. San Diego CA USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
4.
Phase-shift reticles for the fabrication of subhalf micron gates in GaAs integrated circuits using optical stepper lithography
机译:
使用光学步进光刻技术在GaAs集成电路中制造半微米栅极的相移掩模版
作者:
Author(s): Joachim J. Schneider Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Im Breisgau Federal Republic of Germany
;
Fred Becker Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Im Breisgau Federal Republic of Germany
;
Brian Raynor Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Im Breisgau Federal Republic of Germany
;
Birgit Weismann Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Im Breisgau Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
5.
Stability of krypton fluoride laser in real stepper mode operation
机译:
氟化k激光在实际步进模式下的稳定性
作者:
Author(s): Masahiko Kowaka Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Yukio Kobayashi Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa-ken Japan
;
Osamu Wakabayashi Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Noritoshi Itoh Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Jun-ichi Fujimoto Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Takanobu Ishihara Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Hiroaki Nakarai Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Hakaru Mizoguchi Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Yoshiho Amada Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan
;
Yasuhiro Nozue Komatsu Ltd. Hiratsuka-shi Kanagawa Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
6.
Phase-contrast lithography
机译:
相衬光刻
作者:
Author(s): Soichi Inoue Toshiba Corp. Kanagawa-ku Kawasaki Japan
;
Tadahito Fujisawa Toshiba Corp. Saiwai-ku Kawasaki Japan
;
Satoshi Tanaka Toshiba Corp. Saiwai-ku Kawasaki Japan
;
Shuichi Tamamushi Toshiba Corp. Saiwai-ku Kawasaki Japan
;
Yoji Ogawa Toshiba Corp. Saiwai-ku Kawasaki Japan
;
Makoto Nakase Toshiba Corp. Saiwai-ku Kawasaki Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
7.
Wide-field deep-UV wafer stepper for 0.35-micron production
机译:
适用于0.35微米生产的宽视野深紫外晶圆步进机
作者:
Author(s): Stefan Wittekoek ASM Lithography BV Veldhoven Netherlands
;
Martin A. van den Brink ASM Lithography BV Veldhoven Netherlands
;
G.J. Poppelaars ASM Lithography BV Veldhoven Netherlands
;
Marian E. Reuhman-Huisken ASM Lithography BV Veldhoven Netherlands.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
8.
Effect of lens aberration on oblique-illumination stepper system
机译:
镜头像差对倾斜照明步进系统的影响
作者:
Author(s): Pei-yang Yan Intel Corp. Santa Clara CA USA
;
Qi-De Qian Intel Corp. Santa Clara CA USA
;
Joseph C. Langston Intel Corp. Santa Clara CA USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
9.
Improvement of the physical-optics approximation for topography simulation in optical lithography
机译:
光刻中形貌模拟的物理光学近似的改进
作者:
Author(s): Michael S. Yeung Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA
;
Andrew R. Neureuther Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
10.
Subhalf-micron stepper with a reticle particle monitor
机译:
具有标线片式粒子监控器的半微米步进器
作者:
Author(s): Michio Kohno Canon Inc. Utsunomiya-shi Tochigi-ken Japan
;
Nobuhiro Kodachi Canon Inc. Utsunomiya-shi Tochigi-ken Japan
;
Kazumi Yajima Canon Inc. Utsunomiya-shi Tochigi-ken Japan
;
Seiya Miura Canon Inc. Utsunomiqu-shi Tochigi-ken Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
11.
Comparison of various phase-shift strategies and application to 0.35-um ASIC designs
机译:
各种相移策略的比较及其在0.35um ASIC设计中的应用
作者:
Author(s): Kurt Ronse Interuniv. Microelectronics Ctr. Leuven Belgium
;
Rik Jonckheere Interuniv. Microelectronics Ctr. Leuven Belgium
;
Casper A. Juffermans Philips Research Labs. Valkenswaard Netherlands
;
Luc Van den hove Interuniv. Microelectronics Ctr. Leuven Belgium.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
12.
Design and development of a prototype excimer-laser-based stepper
机译:
基于受激准分子激光的步进器的设计与开发
作者:
Author(s): Doh H. Kim Electronics and Telecommunications Research Institute Yoosung Gu Taejeon South Korea
;
Boo Y. Choi Electronics and Telecommunications Research Institute Daeduk Science Town Daejeon South Korea
;
Ki R. Chung Electronics and Telecommunications Research Institute Daeduk Science Town Daejeon South Korea
;
Chi H. Jun Electronics and Telecommunications Research Institute Daeduk Science Town Daejeon South Korea
;
Won I. Jang Electronics and Telecommunications Research Institute Daeduk Science Town Daejeon South Korea
;
Youn Han T. Kim Electronics and Telecommunications Research Institute Daejeon South Korea
;
Jong H. Lee Electronics and Telecommunications Research Institute Taejeon South Korea
;
Heung O. Park Electronics and Telecommunications Research Institute Taejeon South Korea.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
13.
Simulating the stitching performance of flat-panel-display steppers
机译:
模拟平板显示器步进器的缝合性能
作者:
Author(s): Roger C. Sumner MRS Technology Inc. Chelmsford MA USA
;
David S. Holbrook MRS Technology Inc. Woburn MA USA.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
14.
Application of phase-shifting mask to DRAM cell capacitor fabrication
机译:
相移掩模在DRAM单元电容器制造中的应用
作者:
Author(s): Emiko Sugiura Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Hisashi Watanabe Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Takashi Saito Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Tadashi Imoriya Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Yoshihiro Todokoro Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan
;
Morio Inoue Matsushita Electronics Corp. Minami-ku Kyoto Japan.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
15.
Process-induced wafer distortion: its measurement and effects on overlay in stepper-based advanced lithography
机译:
工艺引起的晶圆变形:其测量以及对基于步进的高级光刻中的覆盖层的影响
作者:
Author(s): Giovanni Rivera SGS-Thomson Microelectronics Agrate Brianza Italy
;
Paolo Canestrari SGS-Thomson Microelectronics Agrate Brianza Italy.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
16.
Chromeless phase-shift technology: the physical mechanism of the dark area produced by phase compensation and its application
机译:
无铬相移技术:由相位补偿产生的暗区的物理机理及其应用
作者:
Author(s): Long Que Institute of Optics and Electronics Shuangliu Chendu Sichuan China
;
Guoliang Sun Institute of Optics and Electronics Shuangliu Chengdu Sichuan China
;
Boru Feng Institute of Optics and Electronics Shuangliu Chendu Sichuan China.
会议名称:
《Optical/Laser Microlithography VI》
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