首页>外文会议>Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society

Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society

召开年：2011
召开地：Boston, MA(US);Boston, MA(US)
出版时间：-

会议文集：-

会议论文

热门论文

全部论文

全选（0）

1.Low Temperature Atomic Layer Deposition of Ru Thin Films with Enhanced Nucleation Using Various Ru(0) Metallorganic Precursors and Molecular O_2

机译：使用各种Ru（0）金属有机前驱体和分子O_2增强成核的Ru薄膜的低温原子层沉积
- 作者：Soo-Hyun Kim
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
2.Low Equivalent Oxide Thickness TiO_2 Based Capacitors for DRAM Application

机译：用于DRAM的低当量氧化层厚度TiO_2基电容器
- 作者：K. Froehlich;B. Hudec;K. Husekova;J. Aarik;A. Tarre;A. Kasikov;R. Rammula;A. Vincze
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
3.Atomic Layer Deposited Yttria Stabilized Zirconia Barrier Layer for Proton Conducting Oxide

机译：质子传导氧化物的原子层沉积的氧化钇稳定的氧化锆阻挡层
- 作者：J. S. Park;S. K. Kang;T. M. Guer;F. B. Prinz
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
4.Nanocomposites of ALD Hafnia Nanotubes Surface Functionalized with Gold Nanoparticles

机译：金纳米颗粒表面功能化的ALD Hafnia纳米管的纳米复合材料
- 作者：Tarek M. Abdel-Fattah;Diefeng Gu;Helmut Baumgart
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
5.Diffusion-Reaction Model of ALD in Nanostructured Substrates: Analytic Approximations to Dose Times as a Function of the Surface Reaction Probability

机译：ALD在纳米结构基板中的扩散反应模型：剂量近似时间的解析近似与表面反应概率的函数
- 作者：A. Yanguas-Gil;J. W. Elam
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
6.Enabling High Performance Instruments for Astronomy and Space Exploration with ALD

机译：利用ALD启用用于天文学和太空探索的高性能仪器
- 作者：F. Greet;M.E. Hoenk;B.C. Jacquot;T.J. Jones;M.R. Dickie;S.P. Monacos;S.Nikzad;E. Hamden;D. Schmonivich;P.Day;H.Leduc
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
7.Novel Hybrid Organic/Inorganic Photovoltaic Device Configuration Utilizing ALD Technology and Template Based Nanoelectrode Arrays

机译：利用ALD技术和基于模板的纳米电极阵列的新型混合有机/无机光伏器件配置
- 作者：Diefeng Gu;Helmut Baumgart;Gon Namkoong
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
8.Copper-ALD Seed Layer as an Enabler for Device Scaling

机译：铜ALD种子层可实现设备扩展
- 作者：J. Mao;E. Eisenbraun;V. Omarjee;A. Korolev;C. Dussarrat
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
9.High Throughput Atomic Layer Deposition for Encapsulation of Large Area Electronics

机译：用于大面积电子封装的高通量原子层沉积
- 作者：J. C. S. Kools
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
10.Picosun SUNALE~(TM) ALD Systems for High Quality Nanocoatings - Bridging the Gap Between RD and Industrial Production

机译：用于高质量纳米涂料的Picosun SUNALE〜（TM）ALD系统-缩小研发与工业生产之间的差距
- 作者：M. Toivola;T. Lehto;W-M. LiV;T. Pilvi;P. J. Soininen
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
11.ALD for a Sustainable Future-Paving the Way to a Cleaner World from the Sub-Nanometer Level

机译：ALD推动可持续发展，为从亚纳米级走向更清洁世界的道路铺平道路
- 作者：M. Toivola;T. Pilvi
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
12.Atomic Layer Deposition of A1N with Tris(Dimethylamido)aluminum and NH_3

机译：三（二甲基氨基）铝和NH_3沉积A1N的原子层
- 作者：G. Liu;E. W. Deguns;L. Lecordier;G. Sundaram;J. S. Becker
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
13.Study of Atomic Layer Deposition of ZnO on a Polar Oxide Substrate by In-Situ Quartz Crystal Microbalance

机译：原位石英晶体微天平研究极性氧化物衬底上ZnO的原子层沉积
- 作者：K. Pradhan;P. F. Lyman
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
14.Atomic Layer Deposition of Antimony Telluride Thin Films using (Me_3Si)_2 Te with SbCl_3 as Precursors

机译：以（Me_3Si）_2 Te和SbCl_3为前驱体的碲化锑薄膜的原子层沉积
- 作者：Diefeng Gu;David Nminibapiel;Helmut Baumgart;Hans Robinson;Vladimir Kochergin
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
15.M olecular Layer Deposition of Flexible, Transparent and Conductive Hybrid Organic-Inorganic Thin Films

机译：柔性，透明和导电杂化有机-无机薄膜的分子层沉积
- 作者：B. Yoon;B. H. Lee;S. M. George
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
16.ALD Barrier Deposition on Porous Low-k Dielectric Materials for Interconnects

机译：用于互连的多孔低k介电材料上的ALD阻挡层沉积
- 作者：Sven Van Elshocht;Annelies Delabie;Sven Dewilde;Johan Meersschaut;Johan Swerts;Hilde Tielens;Patrick Verdonck;Thomas Witters;Eric Vancoille
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
17.ALD Applied to Conformal Coating of Nanoporous y-Alumina: Spinel Formation and Luminescence Induced by Europium Doping

机译：ALD在纳米多孔γ-氧化铝的保形涂层中的应用：Euro掺杂引起的尖晶石形成和发光
- 作者：E. Rauwel;O. Nilsen;A. Galeckas;J. C. Walmsley;E. Rytter;H. Fjellvag
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
18.Metalcone and Metalcone/Metal Oxide Alloys Grown Using Atomic Molecular Layer Deposition

机译：使用原子和分子层沉积技术生长的金属锥和金属锥/金属氧化物合金
- 作者：B. H. Lee;V. R. Anderson;S. M. George
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
19.Development of Novel Silicon Precursors for Low-Temperature CVD/ALD Processes

机译：用于低温CVD / ALD工艺的新型硅前体的开发
- 作者：Kohei Iwanaga;Ken-ichi Tada;Hirokazu Chiba;Toshiki Yamamoto;Atsushi Maniwa;Tadahiro Yotsuya;Noriaki Oshima
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
20.Deposition and Characterization of Atomic Layer Deposited ZnS Thin Films on p- type GaSb(100) Using Diethylzinc Precursor and Hydrogen Sulfide

机译：用二乙基锌前驱体和硫化氢在p型GaSb（100）上沉积和表征原子层沉积ZnS薄膜
- 作者：Runshen Xu;Jun Huang;Sid Ghosh;Christos G. Takoudis
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
21.Atomic Layer Deposited Oxides for Passivation of Silicon Photoanodes for Solar Photoelectrochemical Cells

机译：原子层沉积氧化物，用于太阳能光电电池的硅光阳极钝化
- 作者：B. Kalanyan;G. N. Parsons
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
22.ALD and AVD grown Perovskite-type Dielectrics for Metal-Insulator-Metal Applications

机译：用于金属-绝缘子-金属应用的ALD和AVD生长的钙钛矿型电介质
- 作者：Ch. Wenger;M. Lukosius;T. Blomberg;A. Abrutis;P. Baumann;G. Ruhl
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
23.Indium Oxide ALD using Cyclopentadienyl Indium and Mixtures of H_2O and O_2

机译：使用环戊二烯铟和H_2O和O_2的混合物的氧化铟ALD
- 作者：J. W. Elam;J. A. Libera;J. N. Hryn
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
24.Reaction Mechanisms in ALD of Ternary Oxides

机译：三元氧化物ALD中的反应机理
- 作者：S. D. Elliott;O. Nilsen
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
25.Atomic Layer Deposition of Superconductors

机译：超导体的原子层沉积
- 作者：Th. Proslier;J. A. Klug;N. C. Becker;J. W. Elam;M. J. Pellin
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
26.Aluminum Oxide and Other ALD Materials for Si Surface Passivation

机译：用于硅表面钝化的氧化铝和其他ALD材料
- 作者：G. Dingemans;W. M. M. Kessels
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
27.ALD of Thin Films for Lithium Ion Batteries

机译：锂离子电池薄膜的ALD
- 作者：T. Aaltonen;V. Miikkulainen;K. B. Gandrud;A. Pettersen;O. Nilsen;H. Fjellvag
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
28.Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of SrTiO_3: Stoichiometry and Crystallinity Study by Spectroscopic Ellipsometry

机译：SrTiO_3的等离子体辅助原子层沉积：化学计量和结晶度的光谱椭圆偏振法研究
- 作者：V. Longo;N. Leick;F. Roozeboom;W.M.M. Kessels
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
29.Optimizing ALD HfO_2 for Advanced Gate Stacks with Interspersed UV and Thermal Treatments- DADA and MDMA Variations, Combinations, and Optimization

机译：通过散布的紫外线和热处理优化高级栅叠层的ALD HfO_2-DADA和MDMA的变化，组合和优化
- 作者：R. D. Clark;S. Consiglio;G. Nakamura;Y. Trickett;G. J. Leusink
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
30.Remote Plasma Atomic Layer Deposition of Thin Films of Electrochemically Active LiCoO_2

机译：电化学活性LiCoO_2薄膜的远程等离子体原子层沉积
- 作者：M. E. Donders;H. C. M. Knoops;W. M. M. Kessels;P. H. L. Notten
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
31.Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited Ruthenium for MIMCAP Applications

机译：适用于MIMCAP应用的等离子体增强原子层沉积钌
- 作者：J. Swerts;M.M. Salimullah;M. Popovici;M.-S. Kim;M.A. Pawlak;A. Delabie;M.Schaekers;K. Tomida;B. Kaczer;K. Opsomer;C. Vrancken;I. Debusschere;L. Altimime;J.A. Kittl;S. Van Elshocht
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
32.Tailor-made, Magnetic Nanotubes by Template-Directed Atomic Layer Deposition

机译：通过模板定向原子层沉积定制的磁性纳米管
- 作者：R. Zierold;K. Nielsen
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
33.In Situ Gas Phase Diagnostics for Titanium Nitride Atomic Layer Deposition

机译：氮化钛原子层沉积的原位气相诊断
- 作者：J. E. Maslar;W. A. Kimes;B. A. Sperling
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
34.Atomic Layer Deposition for Novel Dye-Sensitized Solar Cells

机译：新型染料敏化太阳能电池的原子层沉积
- 作者：N. Tetreault;L-P. Heiniger;M. Stefik;P. P. Labouchere;E. Arsenault;N. K.Nazeeruddin;G. A. Ozin;M. Graetzel
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
35.Current and Future Applications of ALD in Micro-electronics

机译：ALD在微电子领域的当前和未来应用
- 作者：Ivo J. Raaijmakers
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年
36.Structural Characteristics of Electrically Scaled ALD HfO_2 from Cyclical Deposition and Annealing Scheme

机译：电沉积ALD HfO_2的循环沉积和退火机理
- 作者：S. Consiglio;R. D. Clark;E. Bersch;J. D. LaRose;I. Wells;K. Tapily;G. J. Leusink;A. C. Diebold
- 会议名称：《Symposium on atomic layer deposition applications;Meeting of the Electrochemical Society》 | 2011年