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In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing
In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing
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1.
Computer simulation for estimation of dislocation multiplication due togravitational stress: challenges and opportunities toward slip-free300-mm-diameter silicon wafers for ultralarge-scale integr,
机译:
用于估计重力引致的位错倍增的计算机模拟:用于超大型集成的无直径300mm硅晶片的挑战和机遇,
作者:
Hirofumi Shimizu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Seiichi Isomae
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Kyoko Minowa
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Tomomi Satoh
;
Hitachi ULSI Engineering Co.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
2.
In-line charge-trapping characterization of dielectrics for sub-0.5-umCMOS technologies,
机译:
低于0.5umCMOS技术的电介质的在线电荷捕获特性,
作者:
Pradip K. Roy
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
Carlos M. Chacon
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
Yi Ma
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
G.Horner
;
Keithley Instruments
;
Solon
;
OH
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
3.
New aspects of optical scatterometry a
机译:
光学散射测量的新方面
作者:
Joerg Bischoff
;
Technische Univ. Ilmenau
;
Ilmenau
;
Germany
;
Lutz Hutschenreuther
;
Technische Univ. Ilmenau
;
Ilmenau
;
Germany
;
Horst Truckenbrodt
;
Technische Univ. Ilmenau
;
Ilmenau
;
Germany.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
4.
Contaminant sources causing non-stick-on-pad during die bonding
机译:
芯片接合期间的污染源导致不粘在焊盘上
作者:
Dan E. Posey
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Tim Z. Hossain
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
5.
Noncontact surface-resistivity measurements on production wafers
机译:
生产晶圆上的非接触式表面电阻率测量
作者:
Sergey Liberman
;
SemiTest
;
Inc.
;
Billerica
;
MA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
6.
Electrical defect density modeling for different technology nodes process complexity and critical areas
机译:
不同技术节点的电气缺陷密度建模,过程复杂性和关键领域
作者:
Tom Winter
;
Texas Instruments Inc.
;
Garland
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
7.
Implementation of in-line Fowler-Nordheim testing for tunnel oxide thickness determination in manufacturing
机译:
实施Fowler-Nordheim在线测试来确定制造过程中的隧道氧化物厚度
作者:
Laura D. John
;
Motorola
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Richard G. Cosway
;
Motorola
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Mark D. Griswold
;
Motorola
;
Chandler
;
AZ
;
USA
;
Gerald M. Lamb
;
Keithley Instruments Inc.
;
Cleveland
;
OH
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
8.
Process damage in single-wafer cleaning process
机译:
单晶圆清洗工艺中的工艺损伤
作者:
Soichi Nadahara
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan
;
Kazuo Saki
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan
;
Hiroshi Tomita
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
9.
Process monitoring of ultrathin oxides using surface charge analysis
机译:
使用表面电荷分析法监测超薄氧化物
作者:
Alan H. Field
;
SemiTest
;
Inc.
;
Billerica
;
MA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
10.
Evaluation of lifetime and Hi-Q modules in surface charge analysis
机译:
评估表面电荷分析中的寿命和Hi-Q模块
作者:
Fuyu Lin
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Curtis Burt
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Pat Schay
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
John Stih
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Jay John
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Freddie L. Hampton
;
Motorola
;
Mesa
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
11.
Influence of oxygen precipitates on the measurement of minority carrier diffusion length in p-type silicon material using surface photovoltage technique
机译:
氧沉淀对使用表面光电压技术测量p型硅材料中少数载流子扩散长度的影响
作者:
Yi Ma
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
J.L. Lee
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
Janet Benton
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
T.Boone
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
D.J. Eaglesham
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
G.S. Higashi
;
Lucent Technologies Bell Labs.
;
Orlando
;
FL
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
12.
In-line testing of antenna-type test structures for separation of sources of process-induced damage
机译:
天线型测试结构的在线测试,用于分离过程引起的损坏的来源
作者:
Tomasz Brozek
;
Motorola
;
Phoenix
;
AZ
;
USA
;
Douglas Roberts
;
Motorola
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Thuy Dao
;
Motorola
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
13.
Monitoring process-induced oxide breakdown and its correlation to interface traps
机译:
监控过程引起的氧化物击穿及其与界面陷阱的相关性
作者:
Artur Balasinski
;
SGS Thomson Microelectronics
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
R.Hodges
;
SGS Thomson Microelectronics
;
Phoenix
;
AZ
;
USA
;
J.Walters
;
SGS Thomson Microelectronics
;
Phoenix
;
AZ
;
USA
;
Charles R. Spinner
;
III
;
SGS Thomson Microelectronics
;
Phoenix
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
14.
Room-temperature luminescence diagnostics in polycrystalline silicon
机译:
多晶硅中的室温发光诊断
作者:
Yaroslav Koshka
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Sergei Ostapenko
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Lubek Jastrzebski
;
Univ. of South Florida
;
Univ of So Florida
;
FL
;
USA
;
J.Cao
;
ASE Americas
;
Inc.
;
Billerca
;
MA
;
USA
;
Juris P. Kalejs
;
ASE Americas
;
Inc.
;
Billerica
;
MA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
15.
Mobile charge testing of sodium-contaminated thermal oxides using corona temperature stressing
机译:
使用电晕温度应力对钠污染的热氧化物进行移动电荷测试
作者:
Andrew M. Hoff
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Damon K. DeBusk
;
Cirent Semiconductor
;
Orlando
;
FL
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
16.
Novel method to calculate the probability of silicon damage of DRAM based on the process control capability
机译:
基于过程控制能力的新型计算DRAM硅损坏概率的方法
作者:
Mingchu King
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsin-chu
;
Taiwan
;
Jen-Chih Leu
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsin-chu
;
Taiwan
;
Shih-Shiung Chen
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsin-Chu
;
Taiwan
;
Yin-Chen Chao
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsin-Chu
;
Taiwan.
会议名称:
《》
|
1997年
17.
Rapid in-fab monitoring of ion implant doses using total x-ray fluorescence
机译:
使用总X射线荧光快速监测离子注入剂量的厂内
作者:
Cornelia A. Weiss
;
AMD Saxony Manufacturing GmbH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Tim Z. Hossain
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Ehrenfried Zschech
;
AMD Saxony Manufacturing GmbH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Brian J. MacDonald
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
18.
Cyclic I-V and Q-V: new measurement techniques for monitoring processes and processing-induced damage
机译:
循环I-V和Q-V:监测过程和加工引起的损坏的新测量技术
作者:
Murat Okandan
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University Park
;
PA
;
USA
;
Stephen J. Fonash
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University Park
;
PA
;
USA
;
James Werking
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
19.
Molecular and ionic contamination monitoring for cleanroom air and wafer surfaces
机译:
监测洁净室空气和晶圆表面的分子和离子污染
作者:
Peng Sun
;
MEMC Electronic Materials
;
Inc.
;
St. Peters
;
MO
;
USA
;
Marty Adams
;
MEMC Electronic Materials
;
Inc.
;
St. Peters
;
MO
;
USA
;
Larry Shive
;
MEMC Electronic Materials
;
Inc.
;
St. Peters
;
MO
;
USA
;
Saeed Pirooz
;
MEMC Electronic Materials
;
Inc.
;
St. Peters
;
MO
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
20.
Defect characterization and light scattering by PSL spheres on tungsten CMP wafers
机译:
钨CMP晶片上PSL球的缺陷表征和光散射
作者:
Ping Ding
;
Arizona State Univ.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Greg W. Starr
;
Arizona State Univ.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Rina Chowdhury
;
Arizona State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
Edwin Dan Hirleman
;
Arizona State Univ.
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
21.
Computer simulation for estimation of dislocation multiplication due to gravitational stress: challenges and opportunities toward slip-free 300-mm-diameter silicon wafers for ultralarge-scale integr
机译:
用于估计重力引力引起的位错倍增的计算机模拟:用于超大规模集成的无直径300mm硅晶片的挑战和机遇
作者:
Author(s): Hirofumi Shimizu Hitachi Ltd. Tokyo Japan
;
Seiichi Isomae Hitachi Ltd. Tokyo Japan
;
Kyoko Minowa Hitachi Ltd. Tokyo Japan
;
Tomomi Satoh Hitachi ULSI Engineering Co. Tokyo Japan.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
22.
In-line charge-trapping characterization of dielectrics for sub-0.5-um CMOS technologies
机译:
小于0.5um CMOS技术的电介质的在线电荷捕获特性
作者:
Author(s): Pradip K. Roy Lucent Technologies Bell Labs. Orlando FL USA
;
Carlos M. Chacon Lucent Technologies Bell Labs. Orlando FL USA
;
Yi Ma Lucent Technologies Bell Labs. Orlando FL USA
;
G.Horner Keithley Instruments Solon OH USA.
会议名称:
《In-Line Characterization Techniques for Performance and Yield Enhancement in Microelectronic Manufacturing》
|
1997年
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