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走査プローブ顕微鏡技術の半導体産業での利用

机译:扫描探针显微镜技术在半导体行业中的使用。

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摘要

微細化と新材料導入が同時進行している半導体デバイス開発で,SPMは欠かせない計測技術になっている.特長は,ナノレベルの高い空間分解能が実現できることに加え,形状や寸法測定の他,様々な物性計測にも適用できることである.特に,電気的な特性分布の測定は,SPMの独壇場で半導体分野からの要求も大きいが,目的の物理量を正しく定量測定するためには,まだ計測手法と解析技術の研究開発が必要である.インライン計測を含むSPMの利用範囲の拡大と普及のために,SPM製品の開発と併せて,今後の研究開発に期待するところである.
机译:在半导体器件的开发中,SPM已成为必不可少的测量技术,在这种半导体器件中,小型化和新材料的引入正在同时进行。其特点是可以实现纳米级的高空间分辨率,并且除了形状和尺寸测量外,还可以应用于各种物理性能测量。特别是,SPM唯一位置的半导体领域对电特性分布的测量提出了很高的要求,但是仍然需要对测量方法和分析技术进行研究和开发,以准确地定量测量目标物理量。为了扩大SPM的使用范围(包括在线测量)并进行推广,我们期待着随着SPM产品的开发而进行未来的研发。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2011年第8期|p.409-411|共3页
  • 作者

    金山 敏彦;

  • 作者单位

    (独)産業技術総合研究所(〒305-8568茨城県つくば市梅園1-1-1);

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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