机译:能量阈值附近电子轰击下钨原子L-壳电离的整体截面
Taras Shevchenko Kyiv National University, Faculty of Physics (6, Academician Glushkov Prosp., Kyiv 03127, Ukraine.);
机译:电子冲击L-子壳和总L-壳电离横截面原子(Z = 18-92)
机译:钨原子和钨离子的电子碰撞电离截面
机译:通过电子撞击接近电离阈值的中性原子的K和L壳截面的解析表达式
机译:该系统研究L-壳层电离由何,呃,和Tm的横截面兆电子伏alpah 0article轰炸
机译:内部能量选择光子的形成和反应:I.阈值光电子能谱研究的共振自电离。二。内部能量选择离子的电荷和质子转移反应的横截面。
机译:烃离子的电子碰撞总电离截面
机译:钨原子和钨离子的电子冲击电离横截面
机译:H exp,Ta和W的L-subshell电离截面由H exp +和He exp + Bombardment组成