Croissance de couches minces oxydes par ablation laser : spécificités et limites

摘要

The main limiting features for industrial applications of pulsed laser deposition of thin oxide films are presented: uniformity over large areas while keeping good physical properties, droplet free surfaces, low roughnesses and reproducibility are the main technical requirements in view of an industrial development. These points are discussed and illustrated through the results obtained especially on lithium niobate and vanadium dioxides thin films. Some applications involving these thin films are also presented.%Les principaux facteurs limitant les applications industrielles de la technique de dépôt de couches minces oxydes par ablation laser sont présentés: uniformité sur grande surface tout en conservant les bonnes propriétés physiques, élimination de gouttelettes, faible rugosité et reproductibilité constituent les exigences requises avant d'envisager un développement industriel. Ces points sont discutés et illustrés par les résultats obtenus principalement sur des couches minces niobate de lithium et dioxyde de vanadium. Quelques applications potentielles sont présentées.