首页> 外文期刊>Поверхность Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования >МЕТОД РЕФЛЕКТО-ИНТЕРФЕРОМЕТРИИ НА БАЗЕ ЛАБОРАТОРНОГО ОСТРОФОКУСНОГО ИСТОЧНИКА
【24h】

МЕТОД РЕФЛЕКТО-ИНТЕРФЕРОМЕТРИИ НА БАЗЕ ЛАБОРАТОРНОГО ОСТРОФОКУСНОГО ИСТОЧНИКА

机译:基于实验室尖锐源的反射干涉测量方法

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Представлен новый метод рефлекто-интерферометрии на базе лабораторного источника рентгеновского излучения ддя исследования тонкопленочных структур с использованием составных преломляющих линз. Одним из основных преимуществ предлагаемого метода является простота оптической схемы, когда сфокусированный рентгеновский пучок, отраженный от параллельных плоских поверхностей, создает интерференционную картину в широком угловом диапазоне. Благодаря этому интерференционная картина может быть получена за один снимок без необходимости проведения процедуры сканирования путем наклона образца или детектора. Возможности нового метода были экспериментально продемонстрированы на базе лабораторного острофокусного источника MetalJet компании Excillium, на характеристической линии GaK_α (9.25) кэВ. Была получена серия интерференционных картин для тестового образца ― свободно висящей мембраны Si_3N_4 толщиной 500 нм. На основании полученных результатов показаны основные преимущества метода: высокое временное и пространственное разрешение, а также предложены возможные применения рефле-кто-интерферометра как на лабораторных, так и на синхротронных источниках излучения.
机译:提出了一种新的反射干涉测量方法,基于X射线辐射的实验室来源,研究了使用复合折射透镜的薄膜结构的研究。所提出的方法的主要优点之一是光学方案的简单性,当从平行平坦表面反射的聚焦X射线束时,在宽角频带中产生干涉图案。由此,可以在一张图片中获得干涉图案,而无需通过样品或检测器的倾斜度来获得扫描过程。基于CEV的特征线Gak_α(9.25)的Excizilium的实验室锋利流源,实验证明了新方法的可能性。获得一系列干涉涂料,用于测试样品 - 一种自由的沉默膜Si_3N_4,厚度为500nm。基于所获得的结果,示出了方法的主要优点:高临时和空间分辨率,以及在实验室和同步辐射源上的回流到干涉仪的可能应用。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号