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机译:一步金属辅助化学刻蚀制备单晶硅纳米线:刻蚀时间和硅片电阻率的影响
Shahrood Univ Technol, Fac Phys, Shahrood, Iran;
Shahrood Univ Technol, Fac Phys, Shahrood, Iran;
1-MACE; SiNWs; Si wafer resistivity; Etching duration; TEM; SAED;
机译:通过可控的金属辅助化学刻蚀制备具有超高纵横比的双面晶圆级硅纳米线阵列
机译:通过一步型Cu辅助化学蚀刻纹理超薄硅晶片的可控制造及机理研究
机译:通过单步金属辅助化学蚀刻Si(111)晶片进行GaN沉积形成的优化硅纳米结构
机译:金属辅助化学刻蚀在不同类型的硅晶片上产生的纳米线阵列的形态:比较分析
机译:金属辅助化学蚀刻作为多维半导体雕刻的破坏性平台。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:通过银辅助化学蚀刻梳理与聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的协同作用,通过银辅助化学蚀刻粘合倒置金字塔纹理硅晶片的一步制造