表面波プラズマCVD法を用いた有機EL向け透明封止膜の開発

摘要

We have succeeded in developing a highly transparent, water impermeable SiNx encapsulation film for organic light-emitting displays using a surface-wave-plasma enhanced chemical vapor deposition (SWP-CVD) system.A highly reliable barrier performance (no deterioration for more than five years under room temperature) wa realized with the above SiNx film as an encapsulation of OLEDs.%表面波プラズマCVD法により，水蒸気透過率が10~(-6)g/m~2/d台以下のれたバリア性と透明性を併せ持つ SiNx膜を100℃以下の低温プロセスで下地に損傷を与えることなく形成することに成功した。さらに得られたSiNx膜を有機EL素子の封止膜に用いて，信頼性加速評価による構造最適化を行った結果，常温常湿条件で5万時間以上素子劣化を起こさない封止膜を得ることができた。