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机译:基于WO_3反应溅射膜的臭氧传感器的特性:溅射气体中O_2浓度和工作温度的影响
Laboratoire Materiaux el Microelectronique de Provence (L2MP, UMR 6137 CNRS), Faculte des Sciences et Techniques de St. Jerome, Service 152, 13397 Marseille Cedex 20, France;
WO_3; gas sensor; ozone; thin films; reactive sputtering;
机译:反应溅射WO_3薄膜作为臭氧气体传感器的电学性能
机译:退火和工作温度对射频溅射WO_3薄膜传感器的气敏特性的影响
机译:反应性射频分析电致变色WO_3薄膜过程中气压对压力的影响。 W和WO_3靶的溅射
机译:直流反应磁控溅射制备WO_3薄膜氨气传感器中添加Ti的影响
机译:用于高温应用的反应溅射硅碳氮化硼薄膜的研究。
机译:金属纳米复合材料上氮化铝薄膜的低温反应溅射
机译:目标气体和工作气体对反应性射频溅射制备氮化硅薄膜成分的影响
机译:工作气体压力和流动对反应溅射氧化钼薄膜的影响。