机译:线边缘粗糙度对Finfet Sram稳定性的影响
Institute of Microelectronics, Peking University & Key Laboratory of Microelectronic, Devices and Circuits, Ministry of Education, Beijing 100871, People's Republic of China;
机译:SRAM中n型SOI访问FinFET中的NBTI及其对单元稳定性和性能的影响
机译:功函数变化和线边缘粗糙度对TFET和FinFET器件以及32位CLA电路的影响†
机译:栅极边缘粗糙度变化对FinFET和全能栅极纳米线FET的影响
机译:随机失配对抗蚀剂/间隔定义鳍片测量FinFET的SRAM性能的影响:线边缘粗糙度的作用
机译:基于7NM FinFET的6T SRAM细胞瞬态和DC分析性能分析
机译:线边缘粗糙度对ReRAM均匀性和缩放的影响
机译:工作函数变化和线边缘粗糙度对TFET和FinFET器件以及32位CLa电路的影响
机译:分裂襟翼的跨度和挠度以及前缘粗糙度对配备有前缘襟翼的42度后掠翼的纵向稳定性和滑行特性的影响