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Advanced Metrology: Tackles New Materials, Process Complexity

机译:先进的计量学:解决新材料,工艺复杂性

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摘要

Engineers must now consider metrology as a function of application. We no longer live in the happy world of the optical microscope or even the CD-SEM, where one tool fits almost all needs. For development and ramp, different sampling and measurement methods from those used for high volume may be needed. Beyond 45 nm, metrology will get increasingly complicated for those doing ramp work and gearing for volume production. They will increasingly require additional and more complex data — quickly.
机译:工程师现在必须将计量学视为应用程序的功能。我们不再生活在光学显微镜甚至CD-SEM的幸福世界中,在其中一个工具几乎可以满足所有需求。为了进行开发和提升,可能需要与用于大体积的采样和测量方法不同的采样和测量方法。超过45 nm,对于那些从事斜道工作和批量生产的设备,计量将变得越来越复杂。他们将越来越需要迅速增加的其他和更复杂的数据。

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