首页> 外文期刊>Semiconductor International >Litho Simulation Enables the Leading Edge
【24h】

Litho Simulation Enables the Leading Edge

机译:光刻模拟实现了领先优势

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

What began as an effort to convert lithography from an art to a science has become an absolute essential for production at 130 nm and beyond. Now suppliers are trying to push both speed and accuracy to new levels to improve yield and time to market.
机译:最初的尝试是将光刻技术从一门艺术转变为一门科学,如今已成为生产130 nm及更高波长的绝对必要条件。现在,供应商正试图将速度和准确性提高到新水平,以提高产量和上市时间。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号