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【24h】

Post-Litho Shrink Breaks Advanced Barrier

机译:光刻后收缩打破了高级壁垒

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摘要

No matter the technology node or the future techniques being considered, one thing is generally true: The current solution remains the best until it just won't work anymore. So, while lithographers may be pursuing immersion lithography or even extreme ultraviolet (EUV) lithography for future generations, they'll stick with dry lithography for as long as they can.
机译:无论考虑技术节点还是未来技术,总的来说一件事是正确的:当前的解决方案将保持最佳状态,直到它不再起作用为止。因此,尽管光刻师可能会为后代追求浸没式光刻甚至是极紫外(EUV)光刻,但他们会一直坚持使用干法光刻。

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