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Litho Cell Efficiency Enables Continuing Cost Reduction

机译:光刻电池效率可实现持续降低成本

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摘要

The semiconductor industry is at a crossroads. At the leading edge, performance scaling is no longer solely dependent on feature size reduction; device designs are becoming increasingly exotic to cope with leakage and power issues. Circuit design costs are skyrocketing because design automation has not kept pace with the explosion in functions demanded by today's products. This is jeopardizing the viability of all but a few "home run" products.
机译:半导体产业正处于十字路口。在最前沿,性能扩展不再仅仅依赖于特征尺寸的减小。器件设计对于解决泄漏和电源问题变得越来越陌生。电路设计成本飞涨,因为设计自动化未能跟上当今产品所需功能的爆炸式增长。这危害了除少数“本垒打”产品以外的所有产品的生存能力。

著录项

  • 来源
    《Semiconductor International》 |2010年第2期|20-2224|共4页
  • 作者

    Franklin Kalk;

  • 作者单位

    Toppan Photomasks Inc.;

  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 23:12:21

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