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【24h】

GaN成膜装置の引き合い旺盛SiCエピ装置で新型機を投入

机译:关于GaN成膜设备的询问SiC新型Epi器件的介绍

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摘要

独アイクストロン(日本法人=東京都品川区北品川1-8-11、☎03-5781-0931)は、MOCVD装置の大手メーカーとして、今後需要拡大が見込まれるGaN on SiパワーデバイスやGaN on SiC高周波デバイスの量産を支えている。先ごろSiCエピタキシャル成長装置の新型機をリリースするなど、SiCパワーデバイス市場での存在感もさらに高めていく方針だ。これらの事業を担当する共同社長のフェリックス•グラヴァート(Felix J. Grawert)氏に話を伺った。
机译:德国的Ixtron(日本公司=东京都品川区北品川1-8-11,东京,☎03-5781-0931)是MOCVD设备的领先制造商,预计需求将增长。支持高频设备的批量生产。该公司计划通过最近发布一种新型的SiC外延生长设备,进一步扩大其在SiC功率器件市场的占有率。我们与负责这些业务的联合总裁Felix J. Grawert进行了交谈。

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  • 来源
    《半導体産業新聞》 |2019年第2374期|1-1|共1页
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