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【24h】

関東化学め半導体・fpd用檆能性薬品低アタックを実琭したcmp後洗浄液を発表r&dへの積榦的な取り絤み

机译:关东化学株式会社宣布了一种Cmp后清洁液,该产品对FPD的半导体和FPD化学药品的侵蚀较小。

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摘要

関東化学は,半導体・FPD用機能性薬品を数多くrnラインナップしている。半導体用としては,CMPrn後洗浄液をはじめ,ドライエッチング残渣除去液なrnど,FPD用では各種エッチング液を中心に,有機rnEL材料洗浄液などを製品化している。本稿では,同rn社の各種機能性薬品についてまとめる。
机译:关东化学有大量用于半导体和FPD的功能化学品。对于半导体,我们已经商业化了清洗液,例如CMPrn后清洗液和干法蚀刻残留去除液,对于FPD,主要是各种蚀刻液和有机rnEL材料清洗液。本文总结了同一家公司的各种功能化学品。

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